Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias.
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2015
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82250 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-82250 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-822502015-05-28T03:02:19Z Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath Bizyukov, A.A. Girka, I.A. Romashchenko, E.V. Chibisov, A.D. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias. Исследуется зарядка макрочастиц (MЧ) напротив отрицательно заряженной поверхности, испускающей вторичные электроны из-за бомбардировки многозарядными ионами (MЗИ). Было найдено, что MЧ могут либо притягиваться к подложке, либо отталкиваться в зависимости от потенциала подложки. Досліджено зарядження макрочастинок (МЧ) напроти від’ємно зарядженої поверхні, яка випромінює вторинні електрони завдяки бомбардуванню багатократно зарядженими іонами (БЗІ). Було знайдено, що МЧ можуть або притягатися до підкладки, або відштовхуватися в залежності від потенціалу підкладки. 2015 Article Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82250 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
English |
topic |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
spellingShingle |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Bizyukov, A.A. Girka, I.A. Romashchenko, E.V. Chibisov, A.D. Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath Вопросы атомной науки и техники |
description |
Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias. |
format |
Article |
author |
Bizyukov, A.A. Girka, I.A. Romashchenko, E.V. Chibisov, A.D. |
author_facet |
Bizyukov, A.A. Girka, I.A. Romashchenko, E.V. Chibisov, A.D. |
author_sort |
Bizyukov, A.A. |
title |
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath |
title_short |
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath |
title_full |
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath |
title_fullStr |
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath |
title_full_unstemmed |
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath |
title_sort |
charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath |
publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
publishDate |
2015 |
topic_facet |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82250 |
citation_txt |
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
series |
Вопросы атомной науки и техники |
work_keys_str_mv |
AT bizyukovaa chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath AT girkaia chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath AT romashchenkoev chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath AT chibisovad chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath |
first_indexed |
2024-03-30T08:18:07Z |
last_indexed |
2024-03-30T08:18:07Z |
_version_ |
1796146859995037696 |