Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath

Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias.

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2015
Автори: Bizyukov, A.A., Girka, I.A., Romashchenko, E.V., Chibisov, A.D.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82250
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-82250
record_format dspace
spelling irk-123456789-822502015-05-28T03:02:19Z Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath Bizyukov, A.A. Girka, I.A. Romashchenko, E.V. Chibisov, A.D. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias. Исследуется зарядка макрочастиц (MЧ) напротив отрицательно заряженной поверхности, испускающей вторичные электроны из-за бомбардировки многозарядными ионами (MЗИ). Было найдено, что MЧ могут либо притягиваться к подложке, либо отталкиваться в зависимости от потенциала подложки. Досліджено зарядження макрочастинок (МЧ) напроти від’ємно зарядженої поверхні, яка випромінює вторинні електрони завдяки бомбардуванню багатократно зарядженими іонами (БЗІ). Було знайдено, що МЧ можуть або притягатися до підкладки, або відштовхуватися в залежності від потенціалу підкладки. 2015 Article Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82250 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
spellingShingle Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Bizyukov, A.A.
Girka, I.A.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, A.D.
Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
Вопросы атомной науки и техники
description Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias.
format Article
author Bizyukov, A.A.
Girka, I.A.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, A.D.
author_facet Bizyukov, A.A.
Girka, I.A.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, A.D.
author_sort Bizyukov, A.A.
title Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
title_short Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
title_full Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
title_fullStr Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
title_full_unstemmed Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
title_sort charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2015
topic_facet Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82250
citation_txt Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT bizyukovaa chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath
AT girkaia chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath
AT romashchenkoev chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath
AT chibisovad chargingofmacroparticlesinahighvoltagevacuumarcsheath
first_indexed 2024-03-30T08:18:07Z
last_indexed 2024-03-30T08:18:07Z
_version_ 1796146859995037696