Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
Збережено в:
| Видавець: | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
|---|---|
| Дата: | 2000 |
| Автори: | , , , , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82384 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Цитувати: | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-82384 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-823842015-05-30T03:01:49Z Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. Low Temperature Plasma and Plasma Technologies 2000 Article Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82384 533.9 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Low Temperature Plasma and Plasma Technologies Low Temperature Plasma and Plasma Technologies |
| spellingShingle |
Low Temperature Plasma and Plasma Technologies Low Temperature Plasma and Plasma Technologies Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size Вопросы атомной науки и техники |
| format |
Article |
| author |
Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. |
| author_facet |
Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. |
| author_sort |
Famakinwa, T. |
| title |
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_short |
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_full |
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_fullStr |
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_full_unstemmed |
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_sort |
industrial applications of tio₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2000 |
| topic_facet |
Low Temperature Plasma and Plasma Technologies |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82384 |
| citation_txt |
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT famakinwat industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT ikezawas industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT homyarah industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT yoshiokat industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT nakamurak industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT ninomiyay industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT odah industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT harat industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT horim industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT fujiis industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT yoshimurak industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT taodah industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize |
| first_indexed |
2024-03-30T08:18:41Z |
| last_indexed |
2024-03-30T08:18:41Z |
| _version_ |
1796146871555588096 |