Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

• Видавець: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
• Дата: 2000
• Автори: Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., Oda, H., Hara, T., Hori, M., Fujii, S., Yoshimura, K., Taoda, H.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Low Temperature Plasma and Plasma Technologies
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82384
• Цитувати: Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.