Magnetron with a concave hemispherical cathode
A magnetron set up with a hemispherical concave cathode has been worked out for the first time. The cathode center of curvature was registered with the sputtered surface. An aluminum nitride film was sputtered by this magnetron in the pulse regime. The pulse duration was about 2 ms. The film thick...
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2009
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/88319 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Magnetron with a concave hemispherical cathode / B.V. Stetsenko, A.I. Shchurenko, Yu.G. Zavyalov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 134-135. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-88319 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-883192015-11-12T03:02:35Z Magnetron with a concave hemispherical cathode Stetsenko, B.V. Shchurenko, A.I. Zavyalov, Yu.G. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии A magnetron set up with a hemispherical concave cathode has been worked out for the first time. The cathode center of curvature was registered with the sputtered surface. An aluminum nitride film was sputtered by this magnetron in the pulse regime. The pulse duration was about 2 ms. The film thickness was between 10 to 12 nm. The sputtering rate was about 50 nm/s. The magnetron characteristics agree with a qualitative model of the magnetron. Вперше створено модель магнетрону з напівсферичним катодом, що увігнутий у бік поверхні, на яку проводиться напорошення. В імпульсному режимі напорошена плівка нітриду алюминию, товщина якої в центрі запорошеної області дорівнює 10 нм, а поблизу края катоду – 12 нм. Швидкість запорошення − 50 нм/с. Характеристики магнетрону якісно відповідають модельним розрахункам. Впервые создана модель магнетрона с полусферическим катодом, вогнутым в сторону напыляемой поверхности. В импульсном режиме напылена плёнка нитрида алюминия, толщина которой в центре запыленной площадки равна 10 нм, а вблизи края катода − 12 нм. Скорость напыления − 50 нм/c. Характеристики магнетрона качественно соответствуют модельным расчётам. 2009 Article Magnetron with a concave hemispherical cathode / B.V. Stetsenko, A.I. Shchurenko, Yu.G. Zavyalov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 134-135. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 85.45.Db;85.45.Fd http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/88319 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| spellingShingle |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Stetsenko, B.V. Shchurenko, A.I. Zavyalov, Yu.G. Magnetron with a concave hemispherical cathode Вопросы атомной науки и техники |
| description |
A magnetron set up with a hemispherical concave cathode has been worked out for the first time. The cathode
center of curvature was registered with the sputtered surface. An aluminum nitride film was sputtered by this magnetron
in the pulse regime. The pulse duration was about 2 ms. The film thickness was between 10 to 12 nm. The sputtering
rate was about 50 nm/s. The magnetron characteristics agree with a qualitative model of the magnetron. |
| format |
Article |
| author |
Stetsenko, B.V. Shchurenko, A.I. Zavyalov, Yu.G. |
| author_facet |
Stetsenko, B.V. Shchurenko, A.I. Zavyalov, Yu.G. |
| author_sort |
Stetsenko, B.V. |
| title |
Magnetron with a concave hemispherical cathode |
| title_short |
Magnetron with a concave hemispherical cathode |
| title_full |
Magnetron with a concave hemispherical cathode |
| title_fullStr |
Magnetron with a concave hemispherical cathode |
| title_full_unstemmed |
Magnetron with a concave hemispherical cathode |
| title_sort |
magnetron with a concave hemispherical cathode |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2009 |
| topic_facet |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/88319 |
| citation_txt |
Magnetron with a concave hemispherical cathode / B.V. Stetsenko, A.I. Shchurenko, Yu.G. Zavyalov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 134-135. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT stetsenkobv magnetronwithaconcavehemisphericalcathode AT shchurenkoai magnetronwithaconcavehemisphericalcathode AT zavyalovyug magnetronwithaconcavehemisphericalcathode |
| first_indexed |
2023-10-18T19:37:25Z |
| last_indexed |
2023-10-18T19:37:25Z |
| _version_ |
1796147464422555648 |