Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации
В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N⁺, N⁺ и Ni⁺. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi. Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизированной...
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2009
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90767 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации / А.Д. Погребняк, N. Levintant , Л.В. Маликов , В.М. Береснев , С.Н. Братушка, Н.К. Ердыбаева , T. Czeppe , Zb. Zwiatek , M. Micleales // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 6. — С. 162-168. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. |