2025-02-22T16:59:24-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-90791%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T16:59:24-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-90791%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T16:59:24-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-22T16:59:24-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma

Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma

Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings using a filtered vacuum-arc plasma source with consumable titaniumsilicon cathode was investigated. The thickness of films and their elemental composition were defined by means of the X-ray fluorescent analysis. It has been established, that the silicon conc...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Aksyonov, D.S., Aksenov, I.I., Luchaninov, A.A., Reshetnyak, E.N., Strel’nitskij, V.E.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
Series:Вопросы атомной науки и техники
Subjects:
Физика и технология конструкционных материалов
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90791
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id irk-123456789-90791
record_format dspace
spelling irk-123456789-907912016-01-05T03:02:23Z Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma Aksyonov, D.S. Aksenov, I.I. Luchaninov, A.A. Reshetnyak, E.N. Strel’nitskij, V.E. Физика и технология конструкционных материалов Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings using a filtered vacuum-arc plasma source with consumable titaniumsilicon cathode was investigated. The thickness of films and their elemental composition were defined by means of the X-ray fluorescent analysis. It has been established, that the silicon concentration in coating can be changed over a wide range, from zero to the maximum value defined by silicon content in the cathode, by adjustment deposition process parameters – working gas pressure, substrate negative bias voltage, magnetic field intensity and its spatial distribution. Досліджено процес синтезу Ti-Si- та Ti-Si-N–покриттів з використанням джерела фільтрованої вакуумно- дугової плазми з титан-силіцієвим катодом, що витрачається. Товщина плівок та їх елементний склад визначались рентгенофлуоресцентним методом. Установлено, що концентрація силіцію в покритті може змінюватись в широкому діапазоні, від нуля до максимальної величини, що визначається вмістом силіцію в катоді, шляхом регулювання параметрів процесу – тиску робочого газу, негативної напруги зміщення на підкладці, напруженості та просторового розподілу магнітних полів. Исследован процесс синтеза Ti-Si- и Ti-Si-N–покрытий с использованием источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы с титан-кремниевым катодом. Толщина плёнок и их элементный состав определялись рентгенофлуоресцентным методом. Установлено, что концентрация кремния в покрытии может быть изменена в широких пределах, от нуля до максимальной величины, определяемому содержанием кремния в катоде, путём регулировки параметров процесса осаждения – давления рабочего газа, отрицательного напряжения смещения на подложке, напряжённости и пространственного распределения магнитных полей. 2009 Article Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 6. — С. 268-272. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90791 621.793 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Физика и технология конструкционных материалов
Физика и технология конструкционных материалов
spellingShingle Физика и технология конструкционных материалов
Физика и технология конструкционных материалов
Aksyonov, D.S.
Aksenov, I.I.
Luchaninov, A.A.
Reshetnyak, E.N.
Strel’nitskij, V.E.
Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
Вопросы атомной науки и техники
description Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings using a filtered vacuum-arc plasma source with consumable titaniumsilicon cathode was investigated. The thickness of films and their elemental composition were defined by means of the X-ray fluorescent analysis. It has been established, that the silicon concentration in coating can be changed over a wide range, from zero to the maximum value defined by silicon content in the cathode, by adjustment deposition process parameters – working gas pressure, substrate negative bias voltage, magnetic field intensity and its spatial distribution.
format Article
author Aksyonov, D.S.
Aksenov, I.I.
Luchaninov, A.A.
Reshetnyak, E.N.
Strel’nitskij, V.E.
author_facet Aksyonov, D.S.
Aksenov, I.I.
Luchaninov, A.A.
Reshetnyak, E.N.
Strel’nitskij, V.E.
author_sort Aksyonov, D.S.
title Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
title_short Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
title_full Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
title_fullStr Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
title_full_unstemmed Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
title_sort synthesis of ti-si and ti-si-n coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2009
topic_facet Физика и технология конструкционных материалов
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90791
citation_txt Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 6. — С. 268-272. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT aksyonovds synthesisoftisiandtisincoatingsbycondensationoffilteredvacuumarcplasma
AT aksenovii synthesisoftisiandtisincoatingsbycondensationoffilteredvacuumarcplasma
AT luchaninovaa synthesisoftisiandtisincoatingsbycondensationoffilteredvacuumarcplasma
AT reshetnyaken synthesisoftisiandtisincoatingsbycondensationoffilteredvacuumarcplasma
AT strelnitskijve synthesisoftisiandtisincoatingsbycondensationoffilteredvacuumarcplasma
first_indexed 2023-10-18T19:42:38Z
last_indexed 2023-10-18T19:42:38Z
_version_ 1796147705307725824

Similar Items