Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, ч...
Збережено в:
| Дата: | 2003 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України
2003
|
| Назва видання: | Современная электрометаллургия |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/94056 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |