Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si

• Дата: 2003
• Автори: Мовчан, Б.А., Устинов, А.И., Полищук, С.С., Мельниченко, Т.В.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України 2003
• Назва видання: Современная электрометаллургия
• Теми: Электронно-лучевые процессы
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/94056
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, ч...