Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда
Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимост...
Збережено в:
| Видавець: | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
|---|---|
| Дата: | 2006 |
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2006
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98794 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Цитувати: | Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-98794 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-987942016-04-18T03:02:54Z Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда Дудин, С.В. Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимости, а также записывать протокол технологического процесса. Описано систему автоматичного моніторингу технологічного процесу плазмохімічного травління в реакторі на базі ВЧ індукційного розряду, яка дозволяє в умовах інтенсивних ВЧ перешкод вимірювати основні параметри процесу, відображати на екрані комп’ютера їх поточнізначення та часові залежності, а також записувати протокол технологічного процесу. The system for automatic monitoring of the plasmachemical etching process in the ICP reactor is described, which in conditions of intense RF interference allows measuring the main process parameters, displaying the parameters and its time dependencies on the computer monitor as well as recording the protocol of the technology process. 2006 Article Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98794 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях
интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимости, а также записывать протокол технологического процесса. |
| format |
Article |
| author |
Дудин, С.В. |
| spellingShingle |
Дудин, С.В. Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда Физическая инженерия поверхности |
| author_facet |
Дудин, С.В. |
| author_sort |
Дудин, С.В. |
| title |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_short |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_full |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_fullStr |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_full_unstemmed |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_sort |
автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе вч индукционного разряда |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2006 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98794 |
| citation_txt |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT dudinsv avtomatizirovannaâsistemaoperativnogokontrolâprocessaplazmohimičeskogotravleniâvreaktorenabazevčindukcionnogorazrâda |
| first_indexed |
2023-10-18T20:00:32Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:00:32Z |
| _version_ |
1796148508576710656 |