Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде
Поликристаллические алмазные пленки осаждались на подложки из поликристаллического Mo и монокристаллического Si в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем, в смеси Н2 и СН4 . Методами рентгеноструктурного анализа и оптической микроскопии исследовано влияние температуры подложек и их пр...
Збережено в:
| Дата: | 2007 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2007
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98812 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде / И.И. Выровец, В.И. Грицына, О.А. Опалев, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 87–93. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-98812 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-988122016-04-18T03:02:35Z Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде Выровец, И.И. Грицына, В.И. Опалев, О.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. Поликристаллические алмазные пленки осаждались на подложки из поликристаллического Mo и монокристаллического Si в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем, в смеси Н2 и СН4 . Методами рентгеноструктурного анализа и оптической микроскопии исследовано влияние температуры подложек и их предварительной подготовки на процессы зарождения и роста пленок, а также параметры их субструктуры. Показано, что во всем исследованном диапазоне температур (900 – 1300 °С) механическая обработка поверхности подложек алмазной пастой или порошком детонационного ультрадисперсного алмаза обеспечивает существенное повышение плотности центров зародышеобразования алмаза и позволяет осаждать качественные сплошные пленки толщиной от 2 мкм со скоростью не менее 1 мкм/ч. Полікристалічні алмазні плівки осаджувалися на підкладки з полікристалічного Mo і монокристалічного Si у тліючому розряді, стабілізованому магнітним полем, у суміші Н2 і СН4 . Методами рентгеноструктурного аналізу й оптичної мікроскопії досліджений вплив температури підкладинок і їхньої попередньої підготовки на процеси зародження і росту плівок, а також параметри їх субструктури. Показано, що на всьому дослідженому діапазоні температур (900 – 1300 °С) механічна обробка поверхні підкладинок алмазною пастою або порошком детонаційного ультрадисперсного алмаза забезпечує істотне підвищення щільності центрів зародишоутворення алмаза та дозволяє осаджувати якісні суцільні плівки товщиною від 2 мкм зі швидкістю не менш 1 мкм/ч. Polycrystalline diamond films have been deposited on polycrystalline Mo and monocrystalline Si substrates in glow discharge, stabilized by the magnetic field, in mixtures H2 and CH4 . The influence of substrate temperature and its preliminary preparation on processes of nucleation, films growth and films substructural parameters was investigated by use of X-ray analysis and optical microscopy. It was shown that in all studied temperature range (900 – 1300°C) processing of substrate surface by diamond paste or nanodiamond powder enables enhancing of nucleation density, allows to deposit the continuous high-quality diamond films with thickness from 2 мm and deposition rate more than 1 мm/h. 2007 Article Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде / И.И. Выровец, В.И. Грицына, О.А. Опалев, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 87–93. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98812 537.534.2:679.826 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
Поликристаллические алмазные пленки осаждались на подложки из поликристаллического Mo
и монокристаллического Si в тлеющем разряде, стабилизированном магнитным полем, в смеси
Н2 и СН4
. Методами рентгеноструктурного анализа и оптической микроскопии исследовано
влияние температуры подложек и их предварительной подготовки на процессы зарождения и
роста пленок, а также параметры их субструктуры. Показано, что во всем исследованном диапазоне температур (900 – 1300 °С) механическая обработка поверхности подложек алмазной
пастой или порошком детонационного ультрадисперсного алмаза обеспечивает существенное
повышение плотности центров зародышеобразования алмаза и позволяет осаждать качественные сплошные пленки толщиной от 2 мкм со скоростью не менее 1 мкм/ч. |
| format |
Article |
| author |
Выровец, И.И. Грицына, В.И. Опалев, О.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. |
| spellingShingle |
Выровец, И.И. Грицына, В.И. Опалев, О.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде Физическая инженерия поверхности |
| author_facet |
Выровец, И.И. Грицына, В.И. Опалев, О.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. |
| author_sort |
Выровец, И.И. |
| title |
Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде |
| title_short |
Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде |
| title_full |
Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде |
| title_fullStr |
Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде |
| title_full_unstemmed |
Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде |
| title_sort |
использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2007 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98812 |
| citation_txt |
Использование микро- и нанодисперсного алмаза для осаждения поликристаллических алмазных пленок в тлеющем разряде / И.И. Выровец, В.И. Грицына, О.А. Опалев, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 87–93. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT vyrovecii ispolʹzovaniemikroinanodispersnogoalmazadlâosaždeniâpolikristalličeskihalmaznyhplenokvtleûŝemrazrâde AT gricynavi ispolʹzovaniemikroinanodispersnogoalmazadlâosaždeniâpolikristalličeskihalmaznyhplenokvtleûŝemrazrâde AT opalevoa ispolʹzovaniemikroinanodispersnogoalmazadlâosaždeniâpolikristalličeskihalmaznyhplenokvtleûŝemrazrâde AT rešetnâken ispolʹzovaniemikroinanodispersnogoalmazadlâosaždeniâpolikristalličeskihalmaznyhplenokvtleûŝemrazrâde AT strelʹnickijve ispolʹzovaniemikroinanodispersnogoalmazadlâosaždeniâpolikristalličeskihalmaznyhplenokvtleûŝemrazrâde |
| first_indexed |
2023-10-18T20:00:34Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:00:34Z |
| _version_ |
1796148510492459008 |