Влияние состава электролита на величину порогового напряжения начала порообразования фосфида индия
Представлены результаты экспериментального определения величины порогового напряжения начала порообразования для кристаллов n-InP (100) с концентрацией носителей заряда 2,3⋅10¹⁸ см⁻³. Было показано, что величина порогового напряжения начала порообразования является функцией состава электролита,...
Збережено в:
| Дата: | 2010 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2010
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98902 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Влияние состава электролита на величину порогового напряжения начала порообразования фосфида индия / Я.А. Сычикова // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 3. — С. 259–264. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Представлены результаты экспериментального определения величины порогового напряжения начала порообразования для кристаллов n-InP (100) с концентрацией носителей заряда
2,3⋅10¹⁸ см⁻³. Было показано, что величина порогового напряжения начала порообразования
является функцией состава электролита, в частности зависит от концентрации кислоты в растворе электролита. |
|---|