Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
На основе анализа литературных данных составлена сводка физических явлений, проявляющихся в функциональных PVD покрытиях системы Ti-Al-N как в процессе осаждения, так и в течение последующей обработки и эксплуатации. Несмотря на ограниченный объем данных о физических параметрах взаимодействующих м...
Збережено в:
| Дата: | 2012 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2012
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98923 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами / А.А. Лучанинов, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 1. — С. 4–21. — Бібліогр.: 56 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | На основе анализа литературных данных составлена сводка физических явлений, проявляющихся в функциональных PVD покрытиях системы Ti-Al-N как в процессе осаждения, так и в
течение последующей обработки и эксплуатации. Несмотря на ограниченный объем данных
о физических параметрах взаимодействующих между собой потока осаждаемых частиц и поверхности твердого тела, приведенные сведения дают вполне определенные ориентиры для
дизайна покрытий рассмотренного типа PVD методами, в том числе наиболее общие технологические характеристики процессов. Перспективы данного направления связаны с совершенствованием и более глубокими исследованиями методов осаждения из фильтрованной плазмы, модуляции энергии осаждаемых частиц путем подачи импульсного потенциала смещения
на подложку, введения малых количеств легирующих элементов. |
|---|