Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение

• Дата: 2013
• Автори: Волков, Ю.Я., Стрельницкий, В.Е., Ушаков, В.А.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2013
• Назва видання: Физическая инженерия поверхности
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/99268
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение / Ю.Я. Волков, В.Е. Стрельницкий, В.А. Ушаков // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 1. — С. 26–45. — Бібліогр.: 35 назв. — рос.

Выполнен краткий обзор развития работ по синтезу алмазных покрытий из плазмы газового разряда в СВЧ устройствах (метод MW CVD – microwave plasma chemical vapor deposition). Рассмотрены существующие СВЧ устройства для алмазного синтеза, а также методы компьютерного моделирования новых устройств и процессов, протекающих в них. Описаны некоторые методы гомоэпитаксиального наращивания монокристаллического алмаза на алмазных подложках. Приведеныпримерыполучения поликристаллических и наноструктурных алмазных пленок на неалмазных подложках методом гетероэпитаксиального роста и рассмотрена зависимость особенностей структуры пленок от состава исходной газовой смеси и условий осаждения в СВЧ реакторах. Рассмотрены примеры получения высокоориентированных поликристаллических алмазных плёнок (HOD – highly oriented diamond), которые по многим свойствам близки к монокристаллу алмаза и показаны области практического применения синтезированных алмазных пленок.