Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение
Выполнен краткий обзор развития работ по синтезу алмазных покрытий из плазмы газового разряда в СВЧ устройствах (метод MW CVD – microwave plasma chemical vapor deposition). Рассмотрены существующие СВЧ устройства для алмазного синтеза, а также методы компьютерного моделирования новых устройств и п...
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2013
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/99268 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение / Ю.Я. Волков, В.Е. Стрельницкий, В.А. Ушаков // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 1. — С. 26–45. — Бібліогр.: 35 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-99268 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-992682016-04-26T03:02:11Z Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение Волков, Ю.Я. Стрельницкий, В.Е. Ушаков, В.А. Выполнен краткий обзор развития работ по синтезу алмазных покрытий из плазмы газового разряда в СВЧ устройствах (метод MW CVD – microwave plasma chemical vapor deposition). Рассмотрены существующие СВЧ устройства для алмазного синтеза, а также методы компьютерного моделирования новых устройств и процессов, протекающих в них. Описаны некоторые методы гомоэпитаксиального наращивания монокристаллического алмаза на алмазных подложках. Приведеныпримерыполучения поликристаллических и наноструктурных алмазных пленок на неалмазных подложках методом гетероэпитаксиального роста и рассмотрена зависимость особенностей структуры пленок от состава исходной газовой смеси и условий осаждения в СВЧ реакторах. Рассмотрены примеры получения высокоориентированных поликристаллических алмазных плёнок (HOD – highly oriented diamond), которые по многим свойствам близки к монокристаллу алмаза и показаны области практического применения синтезированных алмазных пленок. Виконано короткий огляд розвитку робіт з синтезу алмазних покрить із плазми газового розряду в НВЧ пристроях (метод MW CVD – microwave plasma chemical vapor deposition). Розглянуті існуючі НВЧ пристрої для алмазного синтезу, а також методи комп’ютерного моделювання нових пристроїв і процесів, які відбуваються в них. Описані деякі методи гомоепітаксіального нарощування монокристалічного алмазу на алмазних підкладках. Також наведені приклади отримання полікристалічних і наноструктурних алмазних плівок на неалмазних підкладках методом гетероепітаксіального зростання і розглянуто залежність особливостей структури плівок від складу вихідної газової суміші та умов осадження в НВЧ реакторах. Розглянуто приклади отримання високоорієнтованих полікристалічних алмазних плівок (HOD – highly oriented diamond), які за багатьма властивостями близькі до монокристалів алмазу і показані деякі приклади практичного застосування синтезованих алмазних плівок. In this paper we present a brief review of advancement in the diamond synthesis by microwave plasma chemical vapor deposition (MW CVD) methods. The most prevalent MW CVD devices for diamond synthesis are described, as well as some of the computational modeling methods of a new devices and interaction between MW fields and plasmas during deposition processes are discussed. One can find here a description of some methods of a single-crystal homoepitaxial diamond growth on the diamond substrates and several examples of a heteroepitaxial MW CVD deposition of a polycrystalline diamond films on a non-diamond substrates. We also examined a number of works dealing with a deposition of highly oriented polycrystalline diamond films (HOD) which shows characteristics close to single-crystal diamond. And in the end we gave a number of examples of the grown diamond films applications in industry and electronics. 2013 Article Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение / Ю.Я. Волков, В.Е. Стрельницкий, В.А. Ушаков // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 1. — С. 26–45. — Бібліогр.: 35 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/99268 537.534.2:679.826 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
Выполнен краткий обзор развития работ по синтезу алмазных покрытий из плазмы газового
разряда в СВЧ устройствах (метод MW CVD – microwave plasma chemical vapor deposition).
Рассмотрены существующие СВЧ устройства для алмазного синтеза, а также методы компьютерного моделирования новых устройств и процессов, протекающих в них. Описаны некоторые методы гомоэпитаксиального наращивания монокристаллического алмаза на алмазных
подложках. Приведеныпримерыполучения поликристаллических и наноструктурных алмазных
пленок на неалмазных подложках методом гетероэпитаксиального роста и рассмотрена зависимость особенностей структуры пленок от состава исходной газовой смеси и условий осаждения в СВЧ реакторах. Рассмотрены примеры получения высокоориентированных поликристаллических алмазных плёнок (HOD – highly oriented diamond), которые по многим свойствам близки к монокристаллу алмаза и показаны области практического применения синтезированных алмазных пленок. |
| format |
Article |
| author |
Волков, Ю.Я. Стрельницкий, В.Е. Ушаков, В.А. |
| spellingShingle |
Волков, Ю.Я. Стрельницкий, В.Е. Ушаков, В.А. Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение Физическая инженерия поверхности |
| author_facet |
Волков, Ю.Я. Стрельницкий, В.Е. Ушаков, В.А. |
| author_sort |
Волков, Ю.Я. |
| title |
Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение |
| title_short |
Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение |
| title_full |
Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение |
| title_fullStr |
Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение |
| title_full_unstemmed |
Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение |
| title_sort |
синтез алмаза в свч плазме: оборудование, пленки, применение |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2013 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/99268 |
| citation_txt |
Синтез алмаза в СВЧ плазме: оборудование, пленки, применение / Ю.Я. Волков, В.Е. Стрельницкий, В.А. Ушаков // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 1. — С. 26–45. — Бібліогр.: 35 назв. — рос. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT volkovûâ sintezalmazavsvčplazmeoborudovanieplenkiprimenenie AT strelʹnickijve sintezalmazavsvčplazmeoborudovanieplenkiprimenenie AT ušakovva sintezalmazavsvčplazmeoborudovanieplenkiprimenenie |
| first_indexed |
2023-10-18T20:01:32Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:01:32Z |
| _version_ |
1796148553556426752 |