Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок

• Datum: 2014
• Hauptverfasser: Гладковский, В.В., Костин, Е.Г., Полозов, Б.П., Федорович, О.А., Петряков, В.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2014
• Schriftenreihe: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Schlagworte: Технологические процессы и оборудование
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100464
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос.

Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует.