Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода
Приведены результаты экспериментального исследования процесса получения металлических нанопленок Ag, Cu, Au в среде атомарного водорода. Предложено два метода, позволяющих контролируемо получать пленки металлов толщиной 1—20 нм при вакууме в камере порядка 20 Па. В основе этих методов лежит процесс...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2015 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2015
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100564 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода / Е.Л. Жавжаров, В.М. Матюшин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2015. — № 5-6. — С. 41-44. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862555806527913984 |
|---|---|
| author | Жавжаров, Е.Л. Матюшин, В.М. |
| author_facet | Жавжаров, Е.Л. Матюшин, В.М. |
| citation_txt | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода / Е.Л. Жавжаров, В.М. Матюшин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2015. — № 5-6. — С. 41-44. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Приведены результаты экспериментального исследования процесса получения металлических нанопленок Ag, Cu, Au в среде атомарного водорода. Предложено два метода, позволяющих контролируемо получать пленки металлов толщиной 1—20 нм при вакууме в камере порядка 20 Па. В основе этих методов лежит процесс распыления атомов поверхности твердого тела, возникающий под действием энергии рекомбинации атомарного водорода в молекулярный.
Наведено результати експериментального дослідження процесу отримання металевих наноплівок Ag, Cu, Au в середовищі атомарного водню. Запропоновано два методи обробки, що дозволяють контрольовано отримувати плівки металів товщиною 1—20 нм при вакуумі в камері близько 20 Па. В основі цих методів лежить процес розпилення атомів поверхні твердого тіла, що виникає під дією енергії рекомбінації атомарного водню в молекулярний.
Due to their electrical properties, thin metallic films are widely used in modern micro- and nanoelectronics. These properties allow solving fundamental problems of surface and solid state physics. Up-to-date methods of producing thin films involve high vacuum or multi-stage processes, which calls for complicated equipment. The authors propose an alternative method of producing thin metallic films using atomic hydrogen. Exothermal reaction of atoms recombination in a molecule (about 4.5 eV / recombination act) initiated on the solid surface by atomic hydrogen may stimulate local heating, spraying and surface atoms transfer. We investigated the process of atomic hydrogen treatment of Cu, Ag and Au metal films, obtained by thermal vacuum evaporation. There are two methods of obtaining nanofilms using atomic hydrogen treatment: sputtering and vapor-phase epitaxy. In the first method, a film is formed by reducing the thickness of the starting film. This method allows obtaining a film as thick as the monolayer. In the second method, a nanofilm is formed by deposition of metal atoms from the vapor phase. This method allows obtaining a film thickness from monolayer to ~10 nm. These methods allow creating nanofilms with controlled parameters and metal thickness. Such films would be technologically pure and have good adhesion.
|
| first_indexed | 2025-11-25T22:20:19Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-100564 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-25T22:20:19Z |
| publishDate | 2015 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Жавжаров, Е.Л. Матюшин, В.М. 2016-05-23T19:44:19Z 2016-05-23T19:44:19Z 2015 Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода / Е.Л. Жавжаров, В.М. Матюшин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2015. — № 5-6. — С. 41-44. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. 2225-5818 DOI: 10.15222/TKEA2015.5-6.41 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100564 539.23 Приведены результаты экспериментального исследования процесса получения металлических нанопленок Ag, Cu, Au в среде атомарного водорода. Предложено два метода, позволяющих контролируемо получать пленки металлов толщиной 1—20 нм при вакууме в камере порядка 20 Па. В основе этих методов лежит процесс распыления атомов поверхности твердого тела, возникающий под действием энергии рекомбинации атомарного водорода в молекулярный. Наведено результати експериментального дослідження процесу отримання металевих наноплівок Ag, Cu, Au в середовищі атомарного водню. Запропоновано два методи обробки, що дозволяють контрольовано отримувати плівки металів товщиною 1—20 нм при вакуумі в камері близько 20 Па. В основі цих методів лежить процес розпилення атомів поверхні твердого тіла, що виникає під дією енергії рекомбінації атомарного водню в молекулярний. Due to their electrical properties, thin metallic films are widely used in modern micro- and nanoelectronics. These properties allow solving fundamental problems of surface and solid state physics. Up-to-date methods of producing thin films involve high vacuum or multi-stage processes, which calls for complicated equipment. The authors propose an alternative method of producing thin metallic films using atomic hydrogen. Exothermal reaction of atoms recombination in a molecule (about 4.5 eV / recombination act) initiated on the solid surface by atomic hydrogen may stimulate local heating, spraying and surface atoms transfer. We investigated the process of atomic hydrogen treatment of Cu, Ag and Au metal films, obtained by thermal vacuum evaporation. There are two methods of obtaining nanofilms using atomic hydrogen treatment: sputtering and vapor-phase epitaxy. In the first method, a film is formed by reducing the thickness of the starting film. This method allows obtaining a film as thick as the monolayer. In the second method, a nanofilm is formed by deposition of metal atoms from the vapor phase. This method allows obtaining a film thickness from monolayer to ~10 nm. These methods allow creating nanofilms with controlled parameters and metal thickness. Such films would be technologically pure and have good adhesion. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода Формування наноплівок Cu, Ag, Au під дією атомів водню Formation of Cu, Ag and Au nanofiims under the influence of hydrogen atoms Article published earlier |
| spellingShingle | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода Жавжаров, Е.Л. Матюшин, В.М. Технологические процессы и оборудование |
| title | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода |
| title_alt | Формування наноплівок Cu, Ag, Au під дією атомів водню Formation of Cu, Ag and Au nanofiims under the influence of hydrogen atoms |
| title_full | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода |
| title_fullStr | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода |
| title_full_unstemmed | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода |
| title_short | Формирование нанопленок Cu, Ag, Au под воздействием атомов водорода |
| title_sort | формирование нанопленок cu, ag, au под воздействием атомов водорода |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100564 |
| work_keys_str_mv | AT žavžarovel formirovanienanoplenokcuagaupodvozdeistviematomovvodoroda AT matûšinvm formirovanienanoplenokcuagaupodvozdeistviematomovvodoroda AT žavžarovel formuvannânanoplívokcuagaupíddíêûatomívvodnû AT matûšinvm formuvannânanoplívokcuagaupíddíêûatomívvodnû AT žavžarovel formationofcuagandaunanofiimsundertheinfluenceofhydrogenatoms AT matûšinvm formationofcuagandaunanofiimsundertheinfluenceofhydrogenatoms |