Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe

Методом высокочастотного магнетронного напыления сформирована тонкая оксидная пленка ZnO на ван-дер-ваальсовой поверхности моноселенида индия. Исследовано влияние вакуумного низкотемпературного отжига на электрические и фотоэлектрические характеристики гетероперехода n-ZnO—p-InSe. Приведены температ...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:2015
Автори: Ковалюк, З.Д., Катеринчук, В.Н., Кудринский, З.Р., Кушнир, Б.В., Нетяга, В.В., Хомяк, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2015
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100566
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe / З.Д. Ковалюк, В.Н. Катеринчук, З.Р. Кудринский, Б.В. Кушнир, В.В. Нетяга, В.В. Хомяк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2015. — № 5-6. — С. 50-54. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862543730188222464
author Ковалюк, З.Д.
Катеринчук, В.Н.
Кудринский, З.Р.
Кушнир, Б.В.
Нетяга, В.В.
Хомяк, В.В.
author_facet Ковалюк, З.Д.
Катеринчук, В.Н.
Кудринский, З.Р.
Кушнир, Б.В.
Нетяга, В.В.
Хомяк, В.В.
citation_txt Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe / З.Д. Ковалюк, В.Н. Катеринчук, З.Р. Кудринский, Б.В. Кушнир, В.В. Нетяга, В.В. Хомяк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2015. — № 5-6. — С. 50-54. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Методом высокочастотного магнетронного напыления сформирована тонкая оксидная пленка ZnO на ван-дер-ваальсовой поверхности моноселенида индия. Исследовано влияние вакуумного низкотемпературного отжига на электрические и фотоэлектрические характеристики гетероперехода n-ZnO—p-InSe. Приведены температурные зависимости ВАХ гетероперехода до и после отжига. Установлена область спектральной фоточувствительности гетероструктуры n-ZnO—p-InSe. Методом високочастотного магнетронного напилення була сформована тонка оксидна плівка ZnO на ван-дер-ваальсовій поверхні моноселеніда індію. Досліджено вплив вакуумного низькотемпературного відпалу на електричні та фотоелектричні характеристики гетеропереходу n-ZnO—p-InSe. Наведено температурні залежності ВАХ гетеропереходу до і після відпалу. Встановлена область спектральної фоточутливості гетероструктури n-ZnO—p-InSe. The article is devoted to studying of influence of vacuum low-temperature annealing on the electrical and photoelectric characteristics of n-ZnO-p-InSe heterostructure.Indium monoselenide (InSe) is a semiconductor of the A³B⁶ group of layered compounds. The basic unit consists of two planes of metal atoms sandwiched between two planes of chalcogen atoms (Se-In-In-Se). The absence of dangling bonds on InSe cleaved surface makes it possible to use this semiconductor as a substrate for fabrication of heterostructures based on semiconductor materials with different symmetries and lattice spacings. Zinc oxide (ZnO) is the most suitable material for window materials and solar cells buffer layers application due to its marvelous transparency in the range of visible region.InSe single crystals were grown by the Bridgman technique from a nonstoichiometric melt and characterized by a pronounced layered structure along the whole length of a sample. ZnO thin oxide film was formed on freshly cleaved van der Waals surface of InSe layered crystal. n-ZnO-p-InSe heterostructure was prepared by the method of high-frequency magnetron sputtering. Sensitivity spectral areas were identified by MDR-3 monochromator with a resolution of 2.6 nm/mm. The current-voltage characteristics of the n-ZnO-p-InSe heterostructures showed a clearly pronounced diode character. In the forward bias of the initial samples, the diode factor had the value 3.7 at room temperature. It is shown that vacuum low-temperature annealing reduces shunt currents of the heterojunction, which is reflected in the decrease in the values of n from 3.7 to 2.7.
first_indexed 2025-11-24T23:34:07Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-100566
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-11-24T23:34:07Z
publishDate 2015
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Ковалюк, З.Д.
Катеринчук, В.Н.
Кудринский, З.Р.
Кушнир, Б.В.
Нетяга, В.В.
Хомяк, В.В.
2016-05-23T19:49:52Z
2016-05-23T19:49:52Z
2015
Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe / З.Д. Ковалюк, В.Н. Катеринчук, З.Р. Кудринский, Б.В. Кушнир, В.В. Нетяга, В.В. Хомяк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2015. — № 5-6. — С. 50-54. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
2225-5818
DOI: 10.15222/TKEA2015.5-6.50
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100566
544.225.2, 621.315.592
Методом высокочастотного магнетронного напыления сформирована тонкая оксидная пленка ZnO на ван-дер-ваальсовой поверхности моноселенида индия. Исследовано влияние вакуумного низкотемпературного отжига на электрические и фотоэлектрические характеристики гетероперехода n-ZnO—p-InSe. Приведены температурные зависимости ВАХ гетероперехода до и после отжига. Установлена область спектральной фоточувствительности гетероструктуры n-ZnO—p-InSe.
Методом високочастотного магнетронного напилення була сформована тонка оксидна плівка ZnO на ван-дер-ваальсовій поверхні моноселеніда індію. Досліджено вплив вакуумного низькотемпературного відпалу на електричні та фотоелектричні характеристики гетеропереходу n-ZnO—p-InSe. Наведено температурні залежності ВАХ гетеропереходу до і після відпалу. Встановлена область спектральної фоточутливості гетероструктури n-ZnO—p-InSe.
The article is devoted to studying of influence of vacuum low-temperature annealing on the electrical and photoelectric characteristics of n-ZnO-p-InSe heterostructure.Indium monoselenide (InSe) is a semiconductor of the A³B⁶ group of layered compounds. The basic unit consists of two planes of metal atoms sandwiched between two planes of chalcogen atoms (Se-In-In-Se). The absence of dangling bonds on InSe cleaved surface makes it possible to use this semiconductor as a substrate for fabrication of heterostructures based on semiconductor materials with different symmetries and lattice spacings. Zinc oxide (ZnO) is the most suitable material for window materials and solar cells buffer layers application due to its marvelous transparency in the range of visible region.InSe single crystals were grown by the Bridgman technique from a nonstoichiometric melt and characterized by a pronounced layered structure along the whole length of a sample. ZnO thin oxide film was formed on freshly cleaved van der Waals surface of InSe layered crystal. n-ZnO-p-InSe heterostructure was prepared by the method of high-frequency magnetron sputtering. Sensitivity spectral areas were identified by MDR-3 monochromator with a resolution of 2.6 nm/mm. The current-voltage characteristics of the n-ZnO-p-InSe heterostructures showed a clearly pronounced diode character. In the forward bias of the initial samples, the diode factor had the value 3.7 at room temperature. It is shown that vacuum low-temperature annealing reduces shunt currents of the heterojunction, which is reflected in the decrease in the values of n from 3.7 to 2.7.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы электроники
Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
Вплив відпалу на ВАХ гетеропереходу n-ZnO—p-InSe
Annealing effect on I-V characteristic of n-ZnO-p-InSe heterojunction
Article
published earlier
spellingShingle Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
Ковалюк, З.Д.
Катеринчук, В.Н.
Кудринский, З.Р.
Кушнир, Б.В.
Нетяга, В.В.
Хомяк, В.В.
Материалы электроники
title Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
title_alt Вплив відпалу на ВАХ гетеропереходу n-ZnO—p-InSe
Annealing effect on I-V characteristic of n-ZnO-p-InSe heterojunction
title_full Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
title_fullStr Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
title_full_unstemmed Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
title_short Влияние отжига на ВАХ гетероперехода n-ZnO—p-InSe
title_sort влияние отжига на вах гетероперехода n-zno—p-inse
topic Материалы электроники
topic_facet Материалы электроники
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100566
work_keys_str_mv AT kovalûkzd vliânieotžiganavahgeteroperehodanznopinse
AT katerinčukvn vliânieotžiganavahgeteroperehodanznopinse
AT kudrinskiizr vliânieotžiganavahgeteroperehodanznopinse
AT kušnirbv vliânieotžiganavahgeteroperehodanznopinse
AT netâgavv vliânieotžiganavahgeteroperehodanznopinse
AT homâkvv vliânieotžiganavahgeteroperehodanznopinse
AT kovalûkzd vplivvídpalunavahgeteroperehodunznopinse
AT katerinčukvn vplivvídpalunavahgeteroperehodunznopinse
AT kudrinskiizr vplivvídpalunavahgeteroperehodunznopinse
AT kušnirbv vplivvídpalunavahgeteroperehodunznopinse
AT netâgavv vplivvídpalunavahgeteroperehodunznopinse
AT homâkvv vplivvídpalunavahgeteroperehodunznopinse
AT kovalûkzd annealingeffectonivcharacteristicofnznopinseheterojunction
AT katerinčukvn annealingeffectonivcharacteristicofnznopinseheterojunction
AT kudrinskiizr annealingeffectonivcharacteristicofnznopinseheterojunction
AT kušnirbv annealingeffectonivcharacteristicofnznopinseheterojunction
AT netâgavv annealingeffectonivcharacteristicofnznopinseheterojunction
AT homâkvv annealingeffectonivcharacteristicofnznopinseheterojunction