Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
This article present‘s researching results of ion implantation Ta in Cu monocrystal with different plane.
 Also the article demonstrates the processes of ion mixing and deposition of ions Ta+ and Cu+ on
 polycrystalline Al substrate. Effect of crystalline plane line was found. At the...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2013 |
| Main Authors: | , , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2013
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100596 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition / M.A. Lisovenko, K.O. Belovol, O.V. Kyrychenko, V.T. Shablya, J. Kassi, B.P. Gritsenko, V.V. Burkovska // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 406–411. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862723256955437056 |
|---|---|
| author | Lisovenko, M.A. Belovol, K.O. Kyrychenko, O.V. Shablya, V.T. Kassi, J. Gritsenko, B.P. Burkovska, V.V. |
| author_facet | Lisovenko, M.A. Belovol, K.O. Kyrychenko, O.V. Shablya, V.T. Kassi, J. Gritsenko, B.P. Burkovska, V.V. |
| citation_txt | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition / M.A. Lisovenko, K.O. Belovol, O.V. Kyrychenko, V.T. Shablya, J. Kassi, B.P. Gritsenko, V.V. Burkovska // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 406–411. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | This article present‘s researching results of ion implantation Ta in Cu monocrystal with different plane.
Also the article demonstrates the processes of ion mixing and deposition of ions Ta+ and Cu+ on
polycrystalline Al substrate. Effect of crystalline plane line was found. At the same implantation dose
the dose at surface layer is different. Possibilities of the simultaneous ion implantation Ta and Cu and
deposition on Al substrate are showed. It causes good corrosion resistance, microhardness increasing
of the surface layers.
Встатье представленырезультаты исследований процессов ионной имплантации Ta в монокриcталле Cu с различной плоскостью. А также процессы ионного перемешивания и осаждения
ионов Ta+ и Cu+ на подложку c поликристаллического Al. Обнаружено влияние направления
кристаллической плоскости и то, что при одинаковой дозе имплантации в поверхностном слое
внедренная доза разная. Показаны возможности одновременной имплантации ионов Ta и Cu и
осаждения на подложку из Al, что приводит к хорошей коррозионной стойкости, увеличению
микротвердости поверхностных слоев.
У статті представлені результати дослідження процесів іонної імплантації Ta у монокристали
Cu з різними площинами. А також процеси іонного змішування і осадження іонів Ta+ і Cu+ на
підкладинку з полікристалічного Al. Виявлено вплив напряму кристалічної площини і те, що при
однаковій дозі імплантації в поверхневому шарі імплантована доза різна. Показані можливості
одночасної імплантації іонів Ta та Cu і осадження на підкладинку з Al, що сприяє хорошій корозійній стійкості та підвищенню мікротвердості поверхневих шарів.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:41:04Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-100596 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T18:41:04Z |
| publishDate | 2013 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Lisovenko, M.A. Belovol, K.O. Kyrychenko, O.V. Shablya, V.T. Kassi, J. Gritsenko, B.P. Burkovska, V.V. 2016-05-24T12:56:50Z 2016-05-24T12:56:50Z 2013 Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition / M.A. Lisovenko, K.O. Belovol, O.V. Kyrychenko, V.T. Shablya, J. Kassi, B.P. Gritsenko, V.V. Burkovska // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 406–411. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100596 539.121.8.04 This article present‘s researching results of ion implantation Ta in Cu monocrystal with different plane.
 Also the article demonstrates the processes of ion mixing and deposition of ions Ta+ and Cu+ on
 polycrystalline Al substrate. Effect of crystalline plane line was found. At the same implantation dose
 the dose at surface layer is different. Possibilities of the simultaneous ion implantation Ta and Cu and
 deposition on Al substrate are showed. It causes good corrosion resistance, microhardness increasing
 of the surface layers. Встатье представленырезультаты исследований процессов ионной имплантации Ta в монокриcталле Cu с различной плоскостью. А также процессы ионного перемешивания и осаждения
 ионов Ta+ и Cu+ на подложку c поликристаллического Al. Обнаружено влияние направления
 кристаллической плоскости и то, что при одинаковой дозе имплантации в поверхностном слое
 внедренная доза разная. Показаны возможности одновременной имплантации ионов Ta и Cu и
 осаждения на подложку из Al, что приводит к хорошей коррозионной стойкости, увеличению
 микротвердости поверхностных слоев. У статті представлені результати дослідження процесів іонної імплантації Ta у монокристали
 Cu з різними площинами. А також процеси іонного змішування і осадження іонів Ta+ і Cu+ на
 підкладинку з полікристалічного Al. Виявлено вплив напряму кристалічної площини і те, що при
 однаковій дозі імплантації в поверхневому шарі імплантована доза різна. Показані можливості
 одночасної імплантації іонів Ta та Cu і осадження на підкладинку з Al, що сприяє хорошій корозійній стійкості та підвищенню мікротвердості поверхневих шарів. en Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition Ионная имплантация и перемешивание ионных пучков при одновременном осаждении металла и ионной имплантации Іонна імплантація і перемішування іонних пучків при одночасному осадженні металу та іонній імплантації Article published earlier |
| spellingShingle | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition Lisovenko, M.A. Belovol, K.O. Kyrychenko, O.V. Shablya, V.T. Kassi, J. Gritsenko, B.P. Burkovska, V.V. |
| title | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition |
| title_alt | Ионная имплантация и перемешивание ионных пучков при одновременном осаждении металла и ионной имплантации Іонна імплантація і перемішування іонних пучків при одночасному осадженні металу та іонній імплантації |
| title_full | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition |
| title_fullStr | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition |
| title_full_unstemmed | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition |
| title_short | Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition |
| title_sort | ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100596 |
| work_keys_str_mv | AT lisovenkoma ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT belovolko ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT kyrychenkoov ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT shablyavt ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT kassij ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT gritsenkobp ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT burkovskavv ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition AT lisovenkoma ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT belovolko ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT kyrychenkoov ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT shablyavt ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT kassij ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT gritsenkobp ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT burkovskavv ionnaâimplantaciâiperemešivanieionnyhpučkovpriodnovremennomosaždeniimetallaiionnoiimplantacii AT lisovenkoma íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí AT belovolko íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí AT kyrychenkoov íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí AT shablyavt íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí AT kassij íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí AT gritsenkobp íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí AT burkovskavv íonnaímplantacíâíperemíšuvannâíonnihpučkívpriodnočasnomuosadžennímetalutaíonníiímplantacíí |