Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2003
Main Authors: Осинский, В.И., Гончаренко, Т.И., Ляхова, Н.Н.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2003
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101844
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃ / В.И. Осинский, Т.И. Гончаренко, Н.Н. Ляхова // Физическая инженерия поверхности. — 2003. — Т. 1, № 1. — С. 94-98. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862613390376042496
author Осинский, В.И.
Гончаренко, Т.И.
Ляхова, Н.Н.
author_facet Осинский, В.И.
Гончаренко, Т.И.
Ляхова, Н.Н.
citation_txt Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃ / В.И. Осинский, Т.И. Гончаренко, Н.Н. Ляхова // Физическая инженерия поверхности. — 2003. — Т. 1, № 1. — С. 94-98. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
first_indexed 2025-11-29T08:58:02Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-101844
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Russian
last_indexed 2025-11-29T08:58:02Z
publishDate 2003
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Осинский, В.И.
Гончаренко, Т.И.
Ляхова, Н.Н.
2016-06-08T10:58:16Z
2016-06-08T10:58:16Z
2003
Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃ / В.И. Осинский, Т.И. Гончаренко, Н.Н. Ляхова // Физическая инженерия поверхности. — 2003. — Т. 1, № 1. — С. 94-98. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101844
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
Article
published earlier
spellingShingle Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
Осинский, В.И.
Гончаренко, Т.И.
Ляхова, Н.Н.
title Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
title_full Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
title_fullStr Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
title_full_unstemmed Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
title_short Влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах InGaN/Al₂O₃
title_sort влияние обработки поверхности чипов на экстракцию излучения сверхъярких светодиодов на гетероструктурах ingan/al₂o₃
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101844
work_keys_str_mv AT osinskiivi vliânieobrabotkipoverhnostičipovnaékstrakciûizlučeniâsverhʺârkihsvetodiodovnageterostrukturahinganal2o3
AT gončarenkoti vliânieobrabotkipoverhnostičipovnaékstrakciûizlučeniâsverhʺârkihsvetodiodovnageterostrukturahinganal2o3
AT lâhovann vliânieobrabotkipoverhnostičipovnaékstrakciûizlučeniâsverhʺârkihsvetodiodovnageterostrukturahinganal2o3