Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO
Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимос...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2012 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2012
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101869 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862625490331762688 |
|---|---|
| author | Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. |
| author_facet | Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. |
| citation_txt | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимость электронно-оптических свойств пленок ITO от условий их получения поясняется влиянием степени релаксации внутренних напряжений и кристалличности.
Вивчено вплив температури підкладки, складу робочого газу і режимів DC і MF реактивного магнетронного розпилення сплаву 90%In + 10%Sn на структурний стан, електричний опір, прозорість і ширину забороненої зони плівок ITO, осаджених на скляні підкладки. Встановлена залежність електронно-оптичних властивостей плівок ITO від умов їх отримання пояснюється впливом ступеню релаксації внутрішніх напруг і кристалічності.
The influence of substrate temperature, composition of the working gas and DC and MF modes of reactive magnetron sputtering of an alloy 90%In + 10%Sn on the structural state, electrical resistance, transparency, and the band gap of the films ITO, deposited on glass substrates have been studied. The dependence of electron-optical properties of ITO films on the conditions of their production explains by the influence of the relaxation of internal stresses and crystallinity.
|
| first_indexed | 2025-12-07T13:35:38Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-101869 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T13:35:38Z |
| publishDate | 2012 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. 2016-06-08T16:37:03Z 2016-06-08T16:37:03Z 2012 Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101869 539.2: 538.975 Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимость электронно-оптических свойств пленок ITO от условий их получения поясняется влиянием степени релаксации внутренних напряжений и кристалличности. Вивчено вплив температури підкладки, складу робочого газу і режимів DC і MF реактивного магнетронного розпилення сплаву 90%In + 10%Sn на структурний стан, електричний опір, прозорість і ширину забороненої зони плівок ITO, осаджених на скляні підкладки. Встановлена залежність електронно-оптичних властивостей плівок ITO від умов їх отримання пояснюється впливом ступеню релаксації внутрішніх напруг і кристалічності. The influence of substrate temperature, composition of the working gas and DC and MF modes of reactive magnetron sputtering of an alloy 90%In + 10%Sn on the structural state, electrical resistance, transparency, and the band gap of the films ITO, deposited on glass substrates have been studied. The dependence of electron-optical properties of ITO films on the conditions of their production explains by the influence of the relaxation of internal stresses and crystallinity. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO Article published earlier |
| spellingShingle | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. |
| title | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_full | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_fullStr | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_full_unstemmed | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_short | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_sort | влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ito |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101869 |
| work_keys_str_mv | AT bažinai vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvoistvaplenokito AT trocanan vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvoistvaplenokito AT čertopalovsv vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvoistvaplenokito AT stipanenkoaa vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvoistvaplenokito AT stupakva vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvoistvaplenokito |