Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO
Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимос...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2012 |
| Main Authors: | Бажин, А.И., Троцан, А.Н., Чертопалов, С.В., Стипаненко, А.А., Ступак, В.А. |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2012
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101869 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineSimilar Items
-
Электрические и оптические свойства пленок ITO, полученных методом магнетронного распыления
by: Юрченко, Г.В.
Published: (2000) -
Структурные исследования пленок оксида цинка и нитрида алюминия, полученных методами CVD и магнетронного распыления
by: Погребняк, А.Д., et al.
Published: (2012) -
Исследование микротопографии поверхности плёнок Al₂O₃, полученных методом магнетронного распыления при низком давлении
by: Тесленко-Пономаренко, В.В.
Published: (2003) -
Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
by: Перекрестов, В.И., et al.
Published: (2000) -
Столбчатая структура и оптические свойства пленок ZnO, полученных электрохимическим методом
by: Чертопалов, С.В., et al.
Published: (2010)