Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны

Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровне...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2012
Main Authors: Гулямов, Г., Шарибаев, Н.Ю., Эркабоев, У.И.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862714954588618752
author Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
author_facet Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
citation_txt Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
description Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровней, в запрещенной зоне вблизи разрешенных зон. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными. Моделюванням процесу термічного розширення щільності станів напівпровідника, досліджена температурна залежність ширини забороненої зони Ge. Чисельним аналізом установлено, що нелінійна залежність ширини забороненої зони Ge при низьких температурах зумовлена наявністю енергетичних рівнів, у забороненій зоні поблизу дозволених зон. Результати розрахунків добре погоджуються з експериментальними даними. Modeling of a thermal broadening of the density of states of the semiconductor temperature dependence of the band gap of Ge. The numerical analysis showed that the nonlinear dependence of the band gap Ge at low temperatures due to the presence of energy levels in the forbidden zone near the allowed bands. Results are in good agreement with the experimental data.
first_indexed 2025-12-07T17:54:37Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-101872
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Russian
last_indexed 2025-12-07T17:54:37Z
publishDate 2012
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
2016-06-08T16:41:14Z
2016-06-08T16:41:14Z
2012
Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
539.21: 621.315.592
Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровней, в запрещенной зоне вблизи разрешенных зон. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными.
Моделюванням процесу термічного розширення щільності станів напівпровідника, досліджена температурна залежність ширини забороненої зони Ge. Чисельним аналізом установлено, що нелінійна залежність ширини забороненої зони Ge при низьких температурах зумовлена наявністю енергетичних рівнів, у забороненій зоні поблизу дозволених зон. Результати розрахунків добре погоджуються з експериментальними даними.
Modeling of a thermal broadening of the density of states of the semiconductor temperature dependence of the band gap of Ge. The numerical analysis showed that the nonlinear dependence of the band gap Ge at low temperatures due to the presence of energy levels in the forbidden zone near the allowed bands. Results are in good agreement with the experimental data.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
Article
published earlier
spellingShingle Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
title Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_full Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_fullStr Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_full_unstemmed Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_short Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_sort тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
work_keys_str_mv AT gulâmovg teplovoeuširenieplotnostisostoâniiitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennoizony
AT šaribaevnû teplovoeuširenieplotnostisostoâniiitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennoizony
AT érkaboevui teplovoeuširenieplotnostisostoâniiitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennoizony