Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны

Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровне...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2012
Автори: Гулямов, Г., Шарибаев, Н.Ю., Эркабоев, У.И.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-101872
record_format dspace
spelling Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
2016-06-08T16:41:14Z
2016-06-08T16:41:14Z
2012
Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
539.21: 621.315.592
Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровней, в запрещенной зоне вблизи разрешенных зон. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными.
Моделюванням процесу термічного розширення щільності станів напівпровідника, досліджена температурна залежність ширини забороненої зони Ge. Чисельним аналізом установлено, що нелінійна залежність ширини забороненої зони Ge при низьких температурах зумовлена наявністю енергетичних рівнів, у забороненій зоні поблизу дозволених зон. Результати розрахунків добре погоджуються з експериментальними даними.
Modeling of a thermal broadening of the density of states of the semiconductor temperature dependence of the band gap of Ge. The numerical analysis showed that the nonlinear dependence of the band gap Ge at low temperatures due to the presence of energy levels in the forbidden zone near the allowed bands. Results are in good agreement with the experimental data.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
spellingShingle Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
title_short Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_full Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_fullStr Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_full_unstemmed Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
title_sort тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны
author Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
author_facet Гулямов, Г.
Шарибаев, Н.Ю.
Эркабоев, У.И.
publishDate 2012
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
description Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровней, в запрещенной зоне вблизи разрешенных зон. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными. Моделюванням процесу термічного розширення щільності станів напівпровідника, досліджена температурна залежність ширини забороненої зони Ge. Чисельним аналізом установлено, що нелінійна залежність ширини забороненої зони Ge при низьких температурах зумовлена наявністю енергетичних рівнів, у забороненій зоні поблизу дозволених зон. Результати розрахунків добре погоджуються з експериментальними даними. Modeling of a thermal broadening of the density of states of the semiconductor temperature dependence of the band gap of Ge. The numerical analysis showed that the nonlinear dependence of the band gap Ge at low temperatures due to the presence of energy levels in the forbidden zone near the allowed bands. Results are in good agreement with the experimental data.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
citation_txt Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT gulâmovg teplovoeuširenieplotnostisostoâniiitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennoizony
AT šaribaevnû teplovoeuširenieplotnostisostoâniiitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennoizony
AT érkaboevui teplovoeuširenieplotnostisostoâniiitemperaturnaâzavisimostʹširinyzapreŝennoizony
first_indexed 2025-12-07T17:54:37Z
last_indexed 2025-12-07T17:54:37Z
_version_ 1850873036197068800