Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны

• Published in: Физическая инженерия поверхности
• Date: 2012
• Main Authors: Гулямов, Г., Шарибаев, Н.Ю., Эркабоев, У.И.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/101872
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Тепловое уширение плотности состояний и температурная зависимость ширины запрещенной зоны / Г. Гулямов, Н.Ю. Шарибаев, У.И. Эркабоев // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Моделированием процесса термического уширения плотности состояний полупроводника, исследована температурная зависимость ширины запрещенной зоны Ge. Численным анализом установлено, что нелинейная зависимость ширины запрещенной зоны Ge при низких температурах обусловлена наличием энергетических уровне...