Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si

Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои угле...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физическая инженерия поверхности
Datum:2014
Hauptverfasser: Журавель, И.А., Бугаев, Е.А., Пеньков, А.В, Зубарев, Е.Н., Севрюкова, В.А., Кондратенко, В.В.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2014
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/102617
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-102617
record_format dspace
spelling Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
2016-06-12T04:44:42Z
2016-06-12T04:44:42Z
2014
Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/102617
536.248.1; 539.26; 538.971
Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои углерода и кремния, разделенные аморфными перемешанными зонами различной плотности. С ростом температуры происходит изменение периода композиции вследствие роста зон и графитизации углерода. При 700 °C начинается кристаллизация кремния. При 800 °C на основе кристаллического кремния формируется кристаллический SiC кубической модификации. При 900—1000 °C происходит разрушение периодической структуры композиции.
Досліджено структуру та фазовий склад багатошарових періодичних композицій C/Si за допомогою малокутової рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії та Раманівської спектроскопії при температурах 50—1050 °C. У початковому стані композиція C/Si є аморфними шарами вуглеця та кремнію, розділеними аморфними змішаними зонами різної густини. Зі зростанням температури відбувається змінення періоду композиції внаслідок зростання зон та графітизації вуглецю. При 700 °C починається кристалізація кремнію. При 800 °C на основі кристалічного кремнію формується кристалічний SiC кубічної модифікації. При 900—1000 °C відбувається руйнування періодичної структури композиції.
Structure and composition of C/Si periodical multilayers were investigated by means of low-angle X-ray diffraction, transmission electron microscopy and Raman spectroscopy at temperatures within 50—1050 °C range. In as-deposited state C/Si multilayer presents amorphous carbon and silicon layers divided by amorphous intermixing layers of different density. As the temperature increases, multilayer period changes as a result of increase of intermixing layers and carbon graphitization. At 700 °C silicon crystallization begins. At 800 °C crystalline SiC of cubic modification forms on basis of crystalline silicon. At 900—1000 °C destruction of multilayer periodical structure takes place.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
Еволюція структури і механізм термічного руйнування багатошарових композицій С/Si
Evolution of structure and mechanism of thermal decomposition of C/Si multilayers
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
spellingShingle Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
title_short Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_full Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_fullStr Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_full_unstemmed Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_sort эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций c/si
author Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
author_facet Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
publishDate 2014
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Еволюція структури і механізм термічного руйнування багатошарових композицій С/Si
Evolution of structure and mechanism of thermal decomposition of C/Si multilayers
description Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои углерода и кремния, разделенные аморфными перемешанными зонами различной плотности. С ростом температуры происходит изменение периода композиции вследствие роста зон и графитизации углерода. При 700 °C начинается кристаллизация кремния. При 800 °C на основе кристаллического кремния формируется кристаллический SiC кубической модификации. При 900—1000 °C происходит разрушение периодической структуры композиции. Досліджено структуру та фазовий склад багатошарових періодичних композицій C/Si за допомогою малокутової рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії та Раманівської спектроскопії при температурах 50—1050 °C. У початковому стані композиція C/Si є аморфними шарами вуглеця та кремнію, розділеними аморфними змішаними зонами різної густини. Зі зростанням температури відбувається змінення періоду композиції внаслідок зростання зон та графітизації вуглецю. При 700 °C починається кристалізація кремнію. При 800 °C на основі кристалічного кремнію формується кристалічний SiC кубічної модифікації. При 900—1000 °C відбувається руйнування періодичної структури композиції. Structure and composition of C/Si periodical multilayers were investigated by means of low-angle X-ray diffraction, transmission electron microscopy and Raman spectroscopy at temperatures within 50—1050 °C range. In as-deposited state C/Si multilayer presents amorphous carbon and silicon layers divided by amorphous intermixing layers of different density. As the temperature increases, multilayer period changes as a result of increase of intermixing layers and carbon graphitization. At 700 °C silicon crystallization begins. At 800 °C crystalline SiC of cubic modification forms on basis of crystalline silicon. At 900—1000 °C destruction of multilayer periodical structure takes place.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/102617
citation_txt Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT žuravelʹia évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogosloinyhkompoziciicsi
AT bugaevea évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogosloinyhkompoziciicsi
AT penʹkovav évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogosloinyhkompoziciicsi
AT zubareven évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogosloinyhkompoziciicsi
AT sevrûkovava évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogosloinyhkompoziciicsi
AT kondratenkovv évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogosloinyhkompoziciicsi
AT žuravelʹia evolûcíâstrukturiímehanízmtermíčnogoruinuvannâbagatošarovihkompozicíissi
AT bugaevea evolûcíâstrukturiímehanízmtermíčnogoruinuvannâbagatošarovihkompozicíissi
AT penʹkovav evolûcíâstrukturiímehanízmtermíčnogoruinuvannâbagatošarovihkompozicíissi
AT zubareven evolûcíâstrukturiímehanízmtermíčnogoruinuvannâbagatošarovihkompozicíissi
AT sevrûkovava evolûcíâstrukturiímehanízmtermíčnogoruinuvannâbagatošarovihkompozicíissi
AT kondratenkovv evolûcíâstrukturiímehanízmtermíčnogoruinuvannâbagatošarovihkompozicíissi
AT žuravelʹia evolutionofstructureandmechanismofthermaldecompositionofcsimultilayers
AT bugaevea evolutionofstructureandmechanismofthermaldecompositionofcsimultilayers
AT penʹkovav evolutionofstructureandmechanismofthermaldecompositionofcsimultilayers
AT zubareven evolutionofstructureandmechanismofthermaldecompositionofcsimultilayers
AT sevrûkovava evolutionofstructureandmechanismofthermaldecompositionofcsimultilayers
AT kondratenkovv evolutionofstructureandmechanismofthermaldecompositionofcsimultilayers
first_indexed 2025-12-07T17:11:18Z
last_indexed 2025-12-07T17:11:18Z
_version_ 1850870310781321216