Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов
Выполнены зондовые измерения параметров различных источников технологической плазмы, используемых в вакуум-плазменных технологиях при реактивном нанесении покрытий и диффузионном насыщении металлов. Проведен сравнительный анализ плазменных источников магнетронного и вакуум-дугового разрядов, использ...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2014 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2014
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/103576 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов / А.В. Сагалович, В.В. Сагалович, С.В. Дудин, В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 285-298. — Бібліогр.: 17 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862725467264516096 |
|---|---|
| author | Сагалович, А.В. Сагалович, В.В. Дудин, С.В. Фареник, В.И. |
| author_facet | Сагалович, А.В. Сагалович, В.В. Дудин, С.В. Фареник, В.И. |
| citation_txt | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов / А.В. Сагалович, В.В. Сагалович, С.В. Дудин, В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 285-298. — Бібліогр.: 17 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Выполнены зондовые измерения параметров различных источников технологической плазмы, используемых в вакуум-плазменных технологиях при реактивном нанесении покрытий и диффузионном насыщении металлов. Проведен сравнительный анализ плазменных источников магнетронного и вакуум-дугового разрядов, используемых в процессах реактивного нанесения функциональных покрытий, и плазменных источников тлеющего разряда и двойного дугового разряда, используемых для очистки поверхности и ионного насыщения. Рассмотрены особенности применения различных плазменных источников для повышения стабильности и управляемости процессов напыления и получения качественных покрытий.
Виконано зондові вимірювання параметрів різних джерел технологічної плазми, що використовуються в вакуум-плазмових технологіях при реактивному нанесенні покриттів і дифузійному насиченні металів. Проведено порівняльний аналіз плазмових джерел магнетронного й вакуум-дугового розрядів, що використовуються в процесах реактивного нанесення функціональних покриттів, та плазмових джерел тліючого розряду й подвійного дугового розряду, що використовуються для очищення поверхні і іонного насичення. Розглянуто особливості застосування різних плазмових джерел для підвищення стабільності і керованості процесів напилення і отримання якісних покриттів.
Probe measurements of parameters of different technological plasma sources used in vacuum-plasma technologies of reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals have been performed. A comparative analysis has been done of the magnetron plasma source and vacuum-arc discharge used during reactive deposition of functional coatings, as well as plasma of glow discharge and dual arc used to clean the surface and ion saturation. Peculiarities of application of different plasma sources for improvement of stability and controllability of deposition of high-quality coatings are discussed.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:52:59Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-103576 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:52:59Z |
| publishDate | 2014 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Сагалович, А.В. Сагалович, В.В. Дудин, С.В. Фареник, В.И. 2016-06-20T14:16:21Z 2016-06-20T14:16:21Z 2014 Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов / А.В. Сагалович, В.В. Сагалович, С.В. Дудин, В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 285-298. — Бібліогр.: 17 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/103576 533.9.082.76 Выполнены зондовые измерения параметров различных источников технологической плазмы, используемых в вакуум-плазменных технологиях при реактивном нанесении покрытий и диффузионном насыщении металлов. Проведен сравнительный анализ плазменных источников магнетронного и вакуум-дугового разрядов, используемых в процессах реактивного нанесения функциональных покрытий, и плазменных источников тлеющего разряда и двойного дугового разряда, используемых для очистки поверхности и ионного насыщения. Рассмотрены особенности применения различных плазменных источников для повышения стабильности и управляемости процессов напыления и получения качественных покрытий. Виконано зондові вимірювання параметрів різних джерел технологічної плазми, що використовуються в вакуум-плазмових технологіях при реактивному нанесенні покриттів і дифузійному насиченні металів. Проведено порівняльний аналіз плазмових джерел магнетронного й вакуум-дугового розрядів, що використовуються в процесах реактивного нанесення функціональних покриттів, та плазмових джерел тліючого розряду й подвійного дугового розряду, що використовуються для очищення поверхні і іонного насичення. Розглянуто особливості застосування різних плазмових джерел для підвищення стабільності і керованості процесів напилення і отримання якісних покриттів. Probe measurements of parameters of different technological plasma sources used in vacuum-plasma technologies of reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals have been performed. A comparative analysis has been done of the magnetron plasma source and vacuum-arc discharge used during reactive deposition of functional coatings, as well as plasma of glow discharge and dual arc used to clean the surface and ion saturation. Peculiarities of application of different plasma sources for improvement of stability and controllability of deposition of high-quality coatings are discussed. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов Порівняльний аналіз різних джерел плазми для цілей реактивного нанесення покриттів і дифузійного насичення металів Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals Article published earlier |
| spellingShingle | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов Сагалович, А.В. Сагалович, В.В. Дудин, С.В. Фареник, В.И. |
| title | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов |
| title_alt | Порівняльний аналіз різних джерел плазми для цілей реактивного нанесення покриттів і дифузійного насичення металів Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals |
| title_full | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов |
| title_fullStr | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов |
| title_full_unstemmed | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов |
| title_short | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов |
| title_sort | сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/103576 |
| work_keys_str_mv | AT sagalovičav sravnitelʹnyianalizrazličnyhistočnikovplazmydlâceleireaktivnogonaneseniâpokrytiiidiffuzionnogonasyŝeniâmetallov AT sagalovičvv sravnitelʹnyianalizrazličnyhistočnikovplazmydlâceleireaktivnogonaneseniâpokrytiiidiffuzionnogonasyŝeniâmetallov AT dudinsv sravnitelʹnyianalizrazličnyhistočnikovplazmydlâceleireaktivnogonaneseniâpokrytiiidiffuzionnogonasyŝeniâmetallov AT farenikvi sravnitelʹnyianalizrazličnyhistočnikovplazmydlâceleireaktivnogonaneseniâpokrytiiidiffuzionnogonasyŝeniâmetallov AT sagalovičav porívnâlʹniianalízríznihdžerelplazmidlâcíleireaktivnogonanesennâpokrittívídifuzíinogonasičennâmetalív AT sagalovičvv porívnâlʹniianalízríznihdžerelplazmidlâcíleireaktivnogonanesennâpokrittívídifuzíinogonasičennâmetalív AT dudinsv porívnâlʹniianalízríznihdžerelplazmidlâcíleireaktivnogonanesennâpokrittívídifuzíinogonasičennâmetalív AT farenikvi porívnâlʹniianalízríznihdžerelplazmidlâcíleireaktivnogonanesennâpokrittívídifuzíinogonasičennâmetalív AT sagalovičav comparativeanalysisofdifferentplasmasourcesforreactivedepositionofcoatingsanddiffusionsaturationofmetals AT sagalovičvv comparativeanalysisofdifferentplasmasourcesforreactivedepositionofcoatingsanddiffusionsaturationofmetals AT dudinsv comparativeanalysisofdifferentplasmasourcesforreactivedepositionofcoatingsanddiffusionsaturationofmetals AT farenikvi comparativeanalysisofdifferentplasmasourcesforreactivedepositionofcoatingsanddiffusionsaturationofmetals |