Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов
Выполнены зондовые измерения параметров различных источников технологической плазмы, используемых в вакуум-плазменных технологиях при реактивном нанесении покрытий и диффузионном насыщении металлов. Проведен сравнительный анализ плазменных источников магнетронного и вакуум-дугового разрядов, использ...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2014 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2014
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/103576 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов / А.В. Сагалович, В.В. Сагалович, С.В. Дудин, В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 285-298. — Бібліогр.: 17 назв. — рос. |