Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов

• Опубліковано в: : Физическая инженерия поверхности
• Дата: 2014
• Автори: Сагалович, А.В., Сагалович, В.В., Дудин, С.В., Фареник, В.И.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2014
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/103576
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов / А.В. Сагалович, В.В. Сагалович, С.В. Дудин, В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 285-298. — Бібліогр.: 17 назв. — рос.

Выполнены зондовые измерения параметров различных источников технологической плазмы, используемых в вакуум-плазменных технологиях при реактивном нанесении покрытий и диффузионном насыщении металлов. Проведен сравнительный анализ плазменных источников магнетронного и вакуум-дугового разрядов, использ...