Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля

Рассмотрены возможности использования метода кинетики среднего поля для компьютерного моделирования диффузионных процессов в тонкоплёночной системе Au/Cu. Показано взаимное влияние диффузионной асимметрии, упорядочения и анизотропии. Полученные результаты позволяют проанализировать кинетику движения...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Металлофизика и новейшие технологии
Дата:2013
Автори: Сидоренко, С.И., Волошко, С.М., Замулко, С.А., Тинькова, А.А.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2013
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/104074
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля / С.И. Сидоренко, С.М. Волошко, С.А. Замулко, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 2. — С. 175-185. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862560537785663488
author Сидоренко, С.И.
Волошко, С.М.
Замулко, С.А.
Тинькова, А.А.
author_facet Сидоренко, С.И.
Волошко, С.М.
Замулко, С.А.
Тинькова, А.А.
citation_txt Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля / С.И. Сидоренко, С.М. Волошко, С.А. Замулко, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 2. — С. 175-185. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Металлофизика и новейшие технологии
description Рассмотрены возможности использования метода кинетики среднего поля для компьютерного моделирования диффузионных процессов в тонкоплёночной системе Au/Cu. Показано взаимное влияние диффузионной асимметрии, упорядочения и анизотропии. Полученные результаты позволяют проанализировать кинетику движения интерфейса, концентрационное распределение диффузантов, толщину и скорость роста упорядоченной фазы, приоритетные направления диффузии. Розглянуто можливості використання методу кінетики середнього поля для комп’ютерного моделювання дифузійних процесів у тонкоплівковій системі Au/Cu. Показано взаємний вплив дифузійної асиметрії, впорядкування та анізотропії. Одержані результати дозволяють проаналізувати кінетику руху інтерфейсу, концентраційні розподіли дифузантів, товщину та швидкість росту впорядкованої фази, пріоритетні напрямки дифузії. Possibilities of applying of the mean-field kinetics method to simulations of diffusion processes in thin-film system are considered. Mutual influence of diffusion asymmetry, ordering, and anisotropy is shown. The results of simulation allow analyzing kinetics of diffusion interface shifting, the concentration distribution of diffusants, ordered-phase thickness and growth rate, and priority directions of diffusion.
first_indexed 2025-11-25T23:07:31Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-104074
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1024-1809
language Russian
last_indexed 2025-11-25T23:07:31Z
publishDate 2013
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
record_format dspace
spelling Сидоренко, С.И.
Волошко, С.М.
Замулко, С.А.
Тинькова, А.А.
2016-07-01T09:07:09Z
2016-07-01T09:07:09Z
2013
Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля / С.И. Сидоренко, С.М. Волошко, С.А. Замулко, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 2. — С. 175-185. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.
1024-1809
PACS numbers: 68.35.Fx, 68.55.Nq, 81.05.Bx, 81.05.Zx, 81.15.Aa, 82.20.Wt
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/104074
Рассмотрены возможности использования метода кинетики среднего поля для компьютерного моделирования диффузионных процессов в тонкоплёночной системе Au/Cu. Показано взаимное влияние диффузионной асимметрии, упорядочения и анизотропии. Полученные результаты позволяют проанализировать кинетику движения интерфейса, концентрационное распределение диффузантов, толщину и скорость роста упорядоченной фазы, приоритетные направления диффузии.
Розглянуто можливості використання методу кінетики середнього поля для комп’ютерного моделювання дифузійних процесів у тонкоплівковій системі Au/Cu. Показано взаємний вплив дифузійної асиметрії, впорядкування та анізотропії. Одержані результати дозволяють проаналізувати кінетику руху інтерфейсу, концентраційні розподіли дифузантів, товщину та швидкість росту впорядкованої фази, пріоритетні напрямки дифузії.
Possibilities of applying of the mean-field kinetics method to simulations of diffusion processes in thin-film system are considered. Mutual influence of diffusion asymmetry, ordering, and anisotropy is shown. The results of simulation allow analyzing kinetics of diffusion interface shifting, the concentration distribution of diffusants, ordered-phase thickness and growth rate, and priority directions of diffusion.
Выражаем благодарность проф. Д. Беке (кафедра физики твердого тела, Университет Дебрецена, Венгрия) за полезные консультации при обсуждении результатов моделирования
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Металлические поверхности и плёнки
Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
Simulations of Diffusion and Ordering Processes in Au/Cu Thin Film System by Mean Field Kinetics Method
Article
published earlier
spellingShingle Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
Сидоренко, С.И.
Волошко, С.М.
Замулко, С.А.
Тинькова, А.А.
Металлические поверхности и плёнки
title Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
title_alt Simulations of Diffusion and Ordering Processes in Au/Cu Thin Film System by Mean Field Kinetics Method
title_full Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
title_fullStr Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
title_full_unstemmed Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
title_short Моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе Au/Cu методом кинетики среднего поля
title_sort моделирование процессов диффузии и упорядочения в тонкоплёночной системе au/cu методом кинетики среднего поля
topic Металлические поверхности и плёнки
topic_facet Металлические поверхности и плёнки
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/104074
work_keys_str_mv AT sidorenkosi modelirovanieprocessovdiffuziiiuporâdočeniâvtonkoplenočnoisistemeaucumetodomkinetikisrednegopolâ
AT vološkosm modelirovanieprocessovdiffuziiiuporâdočeniâvtonkoplenočnoisistemeaucumetodomkinetikisrednegopolâ
AT zamulkosa modelirovanieprocessovdiffuziiiuporâdočeniâvtonkoplenočnoisistemeaucumetodomkinetikisrednegopolâ
AT tinʹkovaaa modelirovanieprocessovdiffuziiiuporâdočeniâvtonkoplenočnoisistemeaucumetodomkinetikisrednegopolâ
AT sidorenkosi simulationsofdiffusionandorderingprocessesinaucuthinfilmsystembymeanfieldkineticsmethod
AT vološkosm simulationsofdiffusionandorderingprocessesinaucuthinfilmsystembymeanfieldkineticsmethod
AT zamulkosa simulationsofdiffusionandorderingprocessesinaucuthinfilmsystembymeanfieldkineticsmethod
AT tinʹkovaaa simulationsofdiffusionandorderingprocessesinaucuthinfilmsystembymeanfieldkineticsmethod