Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію

У роботі розглянуто вплив тривалого природнього старіння та відпалу при 270°C на поведінку температурно-кінетичних залежностей ефективного модуля зсуву Gef та низькочастотного внутрішнього тертя Q⁻¹ кремнію, вирощеного методою Чохральського. Розраховано відношення швидкостей руху дефектів, визнач...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Металлофизика и новейшие технологии
Дата:2013
Автори: Курек, Є.І., Курек, І.Г., Олійнич-Лисюк, А.В., Раранський, М.Д.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2013
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/104270
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію / Є.І. Курек, І.Г. Курек, А.В. Олійнич-Лисюк, М.Д. Раранський // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 12. — С. 1717-1724. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-104270
record_format dspace
spelling Курек, Є.І.
Курек, І.Г.
Олійнич-Лисюк, А.В.
Раранський, М.Д.
2016-07-06T15:39:51Z
2016-07-06T15:39:51Z
2013
Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію / Є.І. Курек, І.Г. Курек, А.В. Олійнич-Лисюк, М.Д. Раранський // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 12. — С. 1717-1724. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.
1024-1809
PACS numbers: 61.72.Hh, 62.20.D-, 62.40.+i, 81.40.Cd, 81.40.Jj, 81.70.Bt
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/104270
У роботі розглянуто вплив тривалого природнього старіння та відпалу при 270°C на поведінку температурно-кінетичних залежностей ефективного модуля зсуву Gef та низькочастотного внутрішнього тертя Q⁻¹ кремнію, вирощеного методою Чохральського. Розраховано відношення швидкостей руху дефектів, визначено енергії активації Ei їх руху в інтервалі ≈ 20—300°C та проаналізовано можливі механізми релаксації дефектної підсистеми під дією напружень, які виникають у кремнії при розпаді пересиченого твердо- го розчину кисню. В околі 70°C виявлено зміну енергії активації з 0,51 еВ на 0,14 еВ, зумовлену закріпленням дислокаційних перегинів на точкових дефектах та їх комплексах. Запропоновано методику неруйнівного способу дослідження мікромеханізмів руху дефектів у кремнії.
В работе рассмотрено влияние длительного естественного старения и отжига при 270°C на поведение температурно-кинетических зависимостей эффективного модуля сдвига Gef и низкочастотного внутреннего трения Q⁻¹ кремния, выращенного методом Чохральского. Рассчитаны отношения скоростей движения дефектов, определены энергии активации Ei их движения в интервале ≈ 20—300°C и проанализированы возможные механизмы релаксации дефектной подсистемы под действием напряжений, возникающих в кремнии при распаде пересыщенного твёрдого раствора кислорода. При температуре ≈ 70°C обнаружено изменение энергии активации с 0,51 эВ на 0,14 эВ, обусловленное закреплением дислокационных перегибов на точечных дефектах и их комплексах. Предложена методика неразрушающего способа исследования микромеханизмов движения дефектов в кремнии.
In a given article, the influence of long-term natural ageing and annealing at 270°C on the behaviour of temperature—kinetic dependences of the effective shear modulus Gef and the low-frequency internal friction Q⁻¹ of silicon grown by means of the Czochralski method is considered. The relations of motion velocities of defects are calculated; certain activation energies Ei of their motion in the interval ≈ 20—300°C are determined, and possible mechanisms of relaxation of defect subsystem under the action of tensions that arise up in silicon at decomposition of supersaturated solid solution of oxygen are analysed. Near 70°C, the change of activation energy from 0.51 eV to 0.14 eV caused by fixing of dislocation bends on point defects and their complexes is revealed. The technique of non-destructive testing of micromechanisms of defects’ motion in silicon is offered.
uk
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Дефекты кристаллической решётки
Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
Исследование процессов релаксации в естественно состаренных монокристаллах кремния
Investigation of Relaxation Processes in Naturally-Aged Single Crystals of Silicon
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
spellingShingle Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
Курек, Є.І.
Курек, І.Г.
Олійнич-Лисюк, А.В.
Раранський, М.Д.
Дефекты кристаллической решётки
title_short Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
title_full Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
title_fullStr Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
title_full_unstemmed Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
title_sort дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію
author Курек, Є.І.
Курек, І.Г.
Олійнич-Лисюк, А.В.
Раранський, М.Д.
author_facet Курек, Є.І.
Курек, І.Г.
Олійнич-Лисюк, А.В.
Раранський, М.Д.
topic Дефекты кристаллической решётки
topic_facet Дефекты кристаллической решётки
publishDate 2013
language Ukrainian
container_title Металлофизика и новейшие технологии
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt Исследование процессов релаксации в естественно состаренных монокристаллах кремния
Investigation of Relaxation Processes in Naturally-Aged Single Crystals of Silicon
description У роботі розглянуто вплив тривалого природнього старіння та відпалу при 270°C на поведінку температурно-кінетичних залежностей ефективного модуля зсуву Gef та низькочастотного внутрішнього тертя Q⁻¹ кремнію, вирощеного методою Чохральського. Розраховано відношення швидкостей руху дефектів, визначено енергії активації Ei їх руху в інтервалі ≈ 20—300°C та проаналізовано можливі механізми релаксації дефектної підсистеми під дією напружень, які виникають у кремнії при розпаді пересиченого твердо- го розчину кисню. В околі 70°C виявлено зміну енергії активації з 0,51 еВ на 0,14 еВ, зумовлену закріпленням дислокаційних перегинів на точкових дефектах та їх комплексах. Запропоновано методику неруйнівного способу дослідження мікромеханізмів руху дефектів у кремнії. В работе рассмотрено влияние длительного естественного старения и отжига при 270°C на поведение температурно-кинетических зависимостей эффективного модуля сдвига Gef и низкочастотного внутреннего трения Q⁻¹ кремния, выращенного методом Чохральского. Рассчитаны отношения скоростей движения дефектов, определены энергии активации Ei их движения в интервале ≈ 20—300°C и проанализированы возможные механизмы релаксации дефектной подсистемы под действием напряжений, возникающих в кремнии при распаде пересыщенного твёрдого раствора кислорода. При температуре ≈ 70°C обнаружено изменение энергии активации с 0,51 эВ на 0,14 эВ, обусловленное закреплением дислокационных перегибов на точечных дефектах и их комплексах. Предложена методика неразрушающего способа исследования микромеханизмов движения дефектов в кремнии. In a given article, the influence of long-term natural ageing and annealing at 270°C on the behaviour of temperature—kinetic dependences of the effective shear modulus Gef and the low-frequency internal friction Q⁻¹ of silicon grown by means of the Czochralski method is considered. The relations of motion velocities of defects are calculated; certain activation energies Ei of their motion in the interval ≈ 20—300°C are determined, and possible mechanisms of relaxation of defect subsystem under the action of tensions that arise up in silicon at decomposition of supersaturated solid solution of oxygen are analysed. Near 70°C, the change of activation energy from 0.51 eV to 0.14 eV caused by fixing of dislocation bends on point defects and their complexes is revealed. The technique of non-destructive testing of micromechanisms of defects’ motion in silicon is offered.
issn 1024-1809
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/104270
citation_txt Дослідження процесів релаксації у природно зістарених монокристалах кремнію / Є.І. Курек, І.Г. Курек, А.В. Олійнич-Лисюк, М.Д. Раранський // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 12. — С. 1717-1724. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT kurekêí doslídžennâprocesívrelaksacííuprirodnozístarenihmonokristalahkremníû
AT kurekíg doslídžennâprocesívrelaksacííuprirodnozístarenihmonokristalahkremníû
AT olíiničlisûkav doslídžennâprocesívrelaksacííuprirodnozístarenihmonokristalahkremníû
AT raransʹkiimd doslídžennâprocesívrelaksacííuprirodnozístarenihmonokristalahkremníû
AT kurekêí issledovanieprocessovrelaksaciivestestvennosostarennyhmonokristallahkremniâ
AT kurekíg issledovanieprocessovrelaksaciivestestvennosostarennyhmonokristallahkremniâ
AT olíiničlisûkav issledovanieprocessovrelaksaciivestestvennosostarennyhmonokristallahkremniâ
AT raransʹkiimd issledovanieprocessovrelaksaciivestestvennosostarennyhmonokristallahkremniâ
AT kurekêí investigationofrelaxationprocessesinnaturallyagedsinglecrystalsofsilicon
AT kurekíg investigationofrelaxationprocessesinnaturallyagedsinglecrystalsofsilicon
AT olíiničlisûkav investigationofrelaxationprocessesinnaturallyagedsinglecrystalsofsilicon
AT raransʹkiimd investigationofrelaxationprocessesinnaturallyagedsinglecrystalsofsilicon
first_indexed 2025-12-01T01:51:29Z
last_indexed 2025-12-01T01:51:29Z
_version_ 1850859015432568832