Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs

В данном исследовании рассматриваются электронные процессы в диодах с РТГ на основе GaAs, при условии, что РТГ ограничена по протяженности. Определяются зависимости активной и реактивной составляющих импеданса планарного диода с РТГ для реальных параметров диодов. Показано, что частотные возможности...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Радіофізика та електроніка
Дата:2013
Автори: Прохоров, Э.Д., Боцула, О.В., Реутина, О.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут радіофізики і електроніки ім. А.Я. Усикова НАН України 2013
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/105969
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs / Э.Д. Прохоров, О.В. Боцула, О.А. Реутина // Радіофізика та електроніка. — 2013. — Т. 4(18), № 1. — С. 86-90. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-105969
record_format dspace
spelling Прохоров, Э.Д.
Боцула, О.В.
Реутина, О.А.
2016-09-13T18:13:14Z
2016-09-13T18:13:14Z
2013
Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs / Э.Д. Прохоров, О.В. Боцула, О.А. Реутина // Радіофізика та електроніка. — 2013. — Т. 4(18), № 1. — С. 86-90. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1028-821X
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/105969
621.382.2
В данном исследовании рассматриваются электронные процессы в диодах с РТГ на основе GaAs, при условии, что РТГ ограничена по протяженности. Определяются зависимости активной и реактивной составляющих импеданса планарного диода с РТГ для реальных параметров диодов. Показано, что частотные возможности диода с РТГ существенно зависят от местоположения границы и эффективность генерации и частотный диапазон уменьшаются при перемещении РТГ к аноду.
У даному дослідженні розглядаються електронні процеси в діодах з РТМ на основі GaAs, за умови, що РТМ обмежена по протяжності. Визначаються залежності активної і реактивної складових імпедансу планарного діоду з РТМ для реальних параметрів діодів. Показано, що частотні можливості діоду з РТМ істотно залежать від місця розташування межі і ефективність генерації та частотний діапазон зменшуються при переміщенні РТМ до аноду.
In this study electronic processes in diodes with a resonant tunneling boundary based on GaAs are considered, provided that the resonant tunneling is limited by the length of the boundary. Dependences of the active and reactive components of the impedance of a planar diode with resonant tunneling boundaries for the real diode parameters are determined. It is shown that the frequency possibilities of the diode with resonant tunneling boundaries depend strongly on the location of the boundary. It is shown that the efficiency of generation and the frequency range are reduced by moving the resonant-tunneling boundary to the anode.
ru
Інститут радіофізики і електроніки ім. А.Я. Усикова НАН України
Радіофізика та електроніка
Вакуумная и твердотельная электроника
Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
Імпеданс та ефективність генерації планарного діода з резонансно-тунельної межею на основі GaAs
Impedance and generation efficiency of planar diode with resonant tunneling boundary based on GaAs
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
spellingShingle Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
Прохоров, Э.Д.
Боцула, О.В.
Реутина, О.А.
Вакуумная и твердотельная электроника
title_short Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
title_full Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
title_fullStr Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
title_full_unstemmed Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs
title_sort импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе gaas
author Прохоров, Э.Д.
Боцула, О.В.
Реутина, О.А.
author_facet Прохоров, Э.Д.
Боцула, О.В.
Реутина, О.А.
topic Вакуумная и твердотельная электроника
topic_facet Вакуумная и твердотельная электроника
publishDate 2013
language Russian
container_title Радіофізика та електроніка
publisher Інститут радіофізики і електроніки ім. А.Я. Усикова НАН України
format Article
title_alt Імпеданс та ефективність генерації планарного діода з резонансно-тунельної межею на основі GaAs
Impedance and generation efficiency of planar diode with resonant tunneling boundary based on GaAs
description В данном исследовании рассматриваются электронные процессы в диодах с РТГ на основе GaAs, при условии, что РТГ ограничена по протяженности. Определяются зависимости активной и реактивной составляющих импеданса планарного диода с РТГ для реальных параметров диодов. Показано, что частотные возможности диода с РТГ существенно зависят от местоположения границы и эффективность генерации и частотный диапазон уменьшаются при перемещении РТГ к аноду. У даному дослідженні розглядаються електронні процеси в діодах з РТМ на основі GaAs, за умови, що РТМ обмежена по протяжності. Визначаються залежності активної і реактивної складових імпедансу планарного діоду з РТМ для реальних параметрів діодів. Показано, що частотні можливості діоду з РТМ істотно залежать від місця розташування межі і ефективність генерації та частотний діапазон зменшуються при переміщенні РТМ до аноду. In this study electronic processes in diodes with a resonant tunneling boundary based on GaAs are considered, provided that the resonant tunneling is limited by the length of the boundary. Dependences of the active and reactive components of the impedance of a planar diode with resonant tunneling boundaries for the real diode parameters are determined. It is shown that the frequency possibilities of the diode with resonant tunneling boundaries depend strongly on the location of the boundary. It is shown that the efficiency of generation and the frequency range are reduced by moving the resonant-tunneling boundary to the anode.
issn 1028-821X
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/105969
citation_txt Импеданс и эффективность генерации планарного диода с резонансно-туннельной границей на основе GaAs / Э.Д. Прохоров, О.В. Боцула, О.А. Реутина // Радіофізика та електроніка. — 2013. — Т. 4(18), № 1. — С. 86-90. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT prohorovéd impedansiéffektivnostʹgeneraciiplanarnogodiodasrezonansnotunnelʹnoigraniceinaosnovegaas
AT boculaov impedansiéffektivnostʹgeneraciiplanarnogodiodasrezonansnotunnelʹnoigraniceinaosnovegaas
AT reutinaoa impedansiéffektivnostʹgeneraciiplanarnogodiodasrezonansnotunnelʹnoigraniceinaosnovegaas
AT prohorovéd ímpedanstaefektivnístʹgeneracííplanarnogodíodazrezonansnotunelʹnoímežeûnaosnovígaas
AT boculaov ímpedanstaefektivnístʹgeneracííplanarnogodíodazrezonansnotunelʹnoímežeûnaosnovígaas
AT reutinaoa ímpedanstaefektivnístʹgeneracííplanarnogodíodazrezonansnotunelʹnoímežeûnaosnovígaas
AT prohorovéd impedanceandgenerationefficiencyofplanardiodewithresonanttunnelingboundarybasedongaas
AT boculaov impedanceandgenerationefficiencyofplanardiodewithresonanttunnelingboundarybasedongaas
AT reutinaoa impedanceandgenerationefficiencyofplanardiodewithresonanttunnelingboundarybasedongaas
first_indexed 2025-12-07T20:53:00Z
last_indexed 2025-12-07T20:53:00Z
_version_ 1850884258662449152