Вплив індукованих підкладкою напружень на електричні та магнітні властивості ультратонких плівок La₀,₆Sr₀,₂Mn₁,₂O₃/LaAlO₃ - Полек, Т.І.; Под'яловський, Д.Й.; Товстолиткін, О.І.; Погорілий, А.М.; Пащенко, О.В. (Металлофизика и новейшие технологии, 2014)
Досліджено магніторезистивні та резонансні властивості ультратонких плівок (2—12 нм) лантан-стронцієвих манганітів з надлишком мангану La₀,₆Sr₀,₂Mn₁,₂O₃, виготовлених методом магнетронного напорошення на монокристалічній підкладці LaAlO₃. Вивчено товщинну еволюцію магнітних властивостей плівок. Методом електронного спінового резонансу показано, що плівки є феромагнітними аж до товщини 4 нм; при цьому зберігається досить висока температура Кюрі ТСТС. На основі аналізу магніторезистивних та резонансних даних зроблено висновок про високий ступінь неоднорідності плівок, товщина яких є меншою або дорівнює 4 нм. Исследованы магниторезистивные и резонансные свойства ультратонких плёнок (2—12 нм) лантан-стронциевых манганитов с избытком марганца La₀,₆Sr₀,₂Mn₁,₂O₃, изготовленных методом магнетронного напыления на монокристаллическую подложку LaAlO₃. Изучена толщинная эволюция магнитных свойств плёнок. Методом электронного спинового резонанса показано, что плёнки ферромагнитны вплоть до толщины 4 нм; при этом сохраняется достаточно высокая температура Кюри ТСТС. На основе анализа магниторезистивных и резонансных данных сделан вывод о высокой степени неоднородности плёнок, толщина которых меньше или равна 4 нм. Magnetoresistive and resonance properties of ultrathin films (2—12 nm) of lanthanum-strontium La₀,₆Sr₀,₂Mn₁,₂O₃ manganites are studied. The films were deposited on LaAlO₃ single-crystalline substrate by magnetron sputtering. Characteristic features of the evolution of magnetic properties with the decrease of film thickness are specified. The electron-spin resonance studies show that the films are ferromagnetic down to a film thickness of 4 nm and retain a relatively high Curie temperature, ТСТС. Based on the analysis of magnetoresistive and resonance data, it is concluded that the films with the thickness of 4 nm and less display high degree of inhomogeneity.