Еліпсометричні властивості тонких плівок молібдену при збудженні поверхневих поляритонів

Експериментально поміряно за допомогою метода Бітті і теоретично обчислено згідно з тришаровою моделлю тонкої плівки залежності еліпсометричних параметрів від кута падіння світла на плівку для трьох тонких плівок молібдену при збудженні поверхневих поляритонів. Экспериментально измерены с помощью ме...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Металлофизика и новейшие технологии
Дата:2014
Автори: Лендел, В.В., Ломакіна, O.В., Мельниченко, Л.Ю., Шайкевич, І.А.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106886
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Еліпсометричні властивості тонких плівок молібдену при збудженні поверхневих поляритонів / В.В. Лендел, O.В. Ломакіна, Л.Ю. Мельниченко, І.А. Шайкевич // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 2. — С. 205-215. — Бібліогр.: 6 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Експериментально поміряно за допомогою метода Бітті і теоретично обчислено згідно з тришаровою моделлю тонкої плівки залежності еліпсометричних параметрів від кута падіння світла на плівку для трьох тонких плівок молібдену при збудженні поверхневих поляритонів. Экспериментально измерены с помощью метода Битти и теоретически вычислены в рамках трёхслойной модели тонкой плёнки зависимости эллипсометрических параметров от угла падения света на плёнку для трёх тонких плёнок молибдена при возбуждении поверхностных поляритонов. Ellipsometric parameters as functions of the angle of incidence of light on a film for three thin films of molybdenum at the excitation of surface polaritons are experimentally measured with the use of the Beattie method and are theoretically calculated within the three-layer model of thin film.
ISSN:1024-1809