Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride

Ab initio розрахунок функцій електрон-фононного зв’язку виконано за методом ЛМТО з використанням повного потенціалу. Низьке значення усередненої константи електрон-фононної взаємодії для HfB₂ λ=0,17 свідчить, що немає підстав для виникнення надпровідного стану в цій сполуці. Вперше було розраховано...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Металлофизика и новейшие технологии
Datum:2014
1. Verfasser: Sichkar, S.M.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106903
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride / S.M. Sichkar // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 3. — С. 419-429. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-106903
record_format dspace
spelling Sichkar, S.M.
2016-10-08T19:07:58Z
2016-10-08T19:07:58Z
2014
Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride / S.M. Sichkar // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 3. — С. 419-429. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.
1024-1809
PACS: 63.20.dk, 71.15.-m, 71.15.Mb, 71.38.-k, 72.10.Di, 72.15.Eb
DOI: http://dx.doi.org/10.15407/mfint.36.03.0419
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106903
Ab initio розрахунок функцій електрон-фононного зв’язку виконано за методом ЛМТО з використанням повного потенціалу. Низьке значення усередненої константи електрон-фононної взаємодії для HfB₂ λ=0,17 свідчить, що немає підстав для виникнення надпровідного стану в цій сполуці. Вперше було розраховано електричний опір і коефіцієнт анізотропії ρz/ρx=1,079 (Т=300 К) для дибориду гафнію. Було досягнуто добру узгодженість з експериментальними даними для електричного опору. У роботі виконано порівняльний аналіз результатів розрахунків фононних спектрів методами ABINIT, SIESTA, VASP та запропонованим методом ЛМТО з детальним обговоренням одержаних відмінностей.
Ab initio расчёт функций электрон-фононной связи выполнен в рамках метода ЛМТО с использованием полного потенциала. Низкое значение усреднённой константы электрон-фононного взаимодействия для HfB₂ λ=0,17 свидетельствует, что нет оснований для возникновения сверхпроводящего состояния в этом соединении. Впервые были рассчитаны электрическое сопротивление и коэффициент анизотропии ρz/ρx=1,079 (T=300 К) для диборида гафния. Было достигнуто хорошее согласие с экспериментальными данными для электрического сопротивления. В работе выполнен сравнительный анализ результатов расчётов фононных спектров методами ABINIT, Siesta, VASP и предложенным методом ЛМТО с детальным обсуждением полученных различий
Ab initio calculation of the electron—phonon coupling functions is carried out, using full potential LMTO method. Low value of the averaged electron— phonon interaction constant for HfB₂ λ=0.17 indicates that there is no evidence of superconductivity in this compound. Electrical resistivity and anisotropy factor ρz/ρx=1.079 (T=300 K) are theoretically calculated. A good agreement with experimental data of electrical resistivity is achieved. Comparative analysis of ABINIT, SIESTA, VASP, and present LMTO method for phonon spectra calculating is performed.
en
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Электронные структура и свойства
Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
Взаємодія між електронними і фононними підсистемами в дибориді гафнію
Взаимодействие между электронными и фононными подсистемами в дибориде гафния
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
spellingShingle Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
Sichkar, S.M.
Электронные структура и свойства
title_short Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
title_full Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
title_fullStr Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
title_full_unstemmed Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride
title_sort interaction between electron and phonon subsystems in hafnium diboride
author Sichkar, S.M.
author_facet Sichkar, S.M.
topic Электронные структура и свойства
topic_facet Электронные структура и свойства
publishDate 2014
language English
container_title Металлофизика и новейшие технологии
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt Взаємодія між електронними і фононними підсистемами в дибориді гафнію
Взаимодействие между электронными и фононными подсистемами в дибориде гафния
description Ab initio розрахунок функцій електрон-фононного зв’язку виконано за методом ЛМТО з використанням повного потенціалу. Низьке значення усередненої константи електрон-фононної взаємодії для HfB₂ λ=0,17 свідчить, що немає підстав для виникнення надпровідного стану в цій сполуці. Вперше було розраховано електричний опір і коефіцієнт анізотропії ρz/ρx=1,079 (Т=300 К) для дибориду гафнію. Було досягнуто добру узгодженість з експериментальними даними для електричного опору. У роботі виконано порівняльний аналіз результатів розрахунків фононних спектрів методами ABINIT, SIESTA, VASP та запропонованим методом ЛМТО з детальним обговоренням одержаних відмінностей. Ab initio расчёт функций электрон-фононной связи выполнен в рамках метода ЛМТО с использованием полного потенциала. Низкое значение усреднённой константы электрон-фононного взаимодействия для HfB₂ λ=0,17 свидетельствует, что нет оснований для возникновения сверхпроводящего состояния в этом соединении. Впервые были рассчитаны электрическое сопротивление и коэффициент анизотропии ρz/ρx=1,079 (T=300 К) для диборида гафния. Было достигнуто хорошее согласие с экспериментальными данными для электрического сопротивления. В работе выполнен сравнительный анализ результатов расчётов фононных спектров методами ABINIT, Siesta, VASP и предложенным методом ЛМТО с детальным обсуждением полученных различий Ab initio calculation of the electron—phonon coupling functions is carried out, using full potential LMTO method. Low value of the averaged electron— phonon interaction constant for HfB₂ λ=0.17 indicates that there is no evidence of superconductivity in this compound. Electrical resistivity and anisotropy factor ρz/ρx=1.079 (T=300 K) are theoretically calculated. A good agreement with experimental data of electrical resistivity is achieved. Comparative analysis of ABINIT, SIESTA, VASP, and present LMTO method for phonon spectra calculating is performed.
issn 1024-1809
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106903
citation_txt Interaction between Electron and Phonon Subsystems in Hafnium Diboride / S.M. Sichkar // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 3. — С. 419-429. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT sichkarsm interactionbetweenelectronandphononsubsystemsinhafniumdiboride
AT sichkarsm vzaêmodíâmíželektronnimiífononnimipídsistemamivdiboridígafníû
AT sichkarsm vzaimodeistviemežduélektronnymiifononnymipodsistemamivdiboridegafniâ
first_indexed 2025-12-07T17:26:19Z
last_indexed 2025-12-07T17:26:19Z
_version_ 1850871255206461440