Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe

В работе исследованы вольт-амперные характеристики гетеропереходов вида MoRe—Si (W)—MoRe; при этом толщина и концентрация допанта полупроводникового барьера Si (W) изготовленных гетероструктур изменялись в широком диапазоне значений. Было установлено, что при относительно высоких концентрациях (5—9...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Металлофизика и новейшие технологии
Datum:2014
Hauptverfasser: Шатерник, В.Е., Белоголовский, М.А., Шаповалов, А.П., Суворов, А.Ю.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106989
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe / В.Е. Шатерник, М.А. Белоголовский, А.П. Шаповалов, А.Ю. Суворов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 8. — С. 999-1006. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862740082866257920
author Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
author_facet Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
citation_txt Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe / В.Е. Шатерник, М.А. Белоголовский, А.П. Шаповалов, А.Ю. Суворов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 8. — С. 999-1006. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Металлофизика и новейшие технологии
description В работе исследованы вольт-амперные характеристики гетеропереходов вида MoRe—Si (W)—MoRe; при этом толщина и концентрация допанта полупроводникового барьера Si (W) изготовленных гетероструктур изменялись в широком диапазоне значений. Было установлено, что при относительно высоких концентрациях (5—9 ат.%) вольфрама в кремниевом барьере наблюдается резонансный туннельный эффект через локализованные уровни вольфрамовых кластеров. Одновременно при определённых условиях в таких переходах появляется сверхпроводящий ток Джозефсона, обусловленный многократными андреевскими отражениями боголюбовских квазичастиц (квазиэлектронов и квазидырок). Экспериментально наблюдаемый большой избыточный ток квазичастиц через переходы свидетельствует о существенном по величине вкладе в транспорт заряда от андреевских отражений на двух S/N-интерфейсах исследуемых джозефсоновских гетероструктур. У роботі досліджено вольт-амперні характеристики гетеропереходів MoRe—Si (W)—MoRe; при цьому товщина та концентрація допанту напівпровідникового бар’єру Si (W) виготовлених гетероструктур змінювалися в широкому діяпазоні значень. Було встановлено, що за відносно високих концентрацій (5—9 ат.%) вольфраму в кремнійовому бар’єрі спостерігається резонансний тунельний ефект через локалізовані рівні вольфрамових кластерів. Одночасно за певних умов у таких переходах виникає Джозефсонів надпровідний струм, обумовлений багаторазовими Андрєєвськими відбиваннями Боголюбових квазичастинок (квазиелектронів та квазидірок). Експериментально спостережуваний великий надлишковий струм квазичастинок крізь переходи свідчить про наявність істотного за величиною внеску в транспорт заряду від Андрєєвських відбивань на двох S/N-інтерфейсах досліджуваних Джозефсонових гетероструктур. Current—voltage characteristics of fabricated MoRe—Si(W)—MoRe heterojunctions are investigated in a wide range of changes in the parameters (such as thickness and dopant concentration) of the semiconductor Si (W) barriers. As found, at relatively high concentrations (5—9 at.%) of tungsten in the silicon barriers, a resonant tunnelling effect occurs through the localized levels of tungsten clusters. Simultaneously, under certain conditions, a superconducting Josephson current appears through such junctions and is conditioned by the multiple Andreev reflections of the Bogolyubov quasi-particles (quasi-electrons and quasi-holes) within them. The experimentally observed high quasi-particle excess current through the junctions indicates that there is a significant contribution of the Andreev reflections by the two S/N interfaces into the charge transport through the studied Josephson heterostructures.
first_indexed 2025-12-07T20:12:30Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-106989
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1024-1809
language Russian
last_indexed 2025-12-07T20:12:30Z
publishDate 2014
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
record_format dspace
spelling Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
2016-10-10T18:48:13Z
2016-10-10T18:48:13Z
2014
Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe / В.Е. Шатерник, М.А. Белоголовский, А.П. Шаповалов, А.Ю. Суворов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 8. — С. 999-1006. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
1024-1809
PACS: 73.23.-b, 73.40.Gk, 73.40.Ns, 74.50.+r, 74.70.Ad, 85.25.Am, 85.25.Cp
DOI: http://dx.doi.org/10.15407/mfint.36.08.0999
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106989
В работе исследованы вольт-амперные характеристики гетеропереходов вида MoRe—Si (W)—MoRe; при этом толщина и концентрация допанта полупроводникового барьера Si (W) изготовленных гетероструктур изменялись в широком диапазоне значений. Было установлено, что при относительно высоких концентрациях (5—9 ат.%) вольфрама в кремниевом барьере наблюдается резонансный туннельный эффект через локализованные уровни вольфрамовых кластеров. Одновременно при определённых условиях в таких переходах появляется сверхпроводящий ток Джозефсона, обусловленный многократными андреевскими отражениями боголюбовских квазичастиц (квазиэлектронов и квазидырок). Экспериментально наблюдаемый большой избыточный ток квазичастиц через переходы свидетельствует о существенном по величине вкладе в транспорт заряда от андреевских отражений на двух S/N-интерфейсах исследуемых джозефсоновских гетероструктур.
У роботі досліджено вольт-амперні характеристики гетеропереходів MoRe—Si (W)—MoRe; при цьому товщина та концентрація допанту напівпровідникового бар’єру Si (W) виготовлених гетероструктур змінювалися в широкому діяпазоні значень. Було встановлено, що за відносно високих концентрацій (5—9 ат.%) вольфраму в кремнійовому бар’єрі спостерігається резонансний тунельний ефект через локалізовані рівні вольфрамових кластерів. Одночасно за певних умов у таких переходах виникає Джозефсонів надпровідний струм, обумовлений багаторазовими Андрєєвськими відбиваннями Боголюбових квазичастинок (квазиелектронів та квазидірок). Експериментально спостережуваний великий надлишковий струм квазичастинок крізь переходи свідчить про наявність істотного за величиною внеску в транспорт заряду від Андрєєвських відбивань на двох S/N-інтерфейсах досліджуваних Джозефсонових гетероструктур.
Current—voltage characteristics of fabricated MoRe—Si(W)—MoRe heterojunctions are investigated in a wide range of changes in the parameters (such as thickness and dopant concentration) of the semiconductor Si (W) barriers. As found, at relatively high concentrations (5—9 at.%) of tungsten in the silicon barriers, a resonant tunnelling effect occurs through the localized levels of tungsten clusters. Simultaneously, under certain conditions, a superconducting Josephson current appears through such junctions and is conditioned by the multiple Andreev reflections of the Bogolyubov quasi-particles (quasi-electrons and quasi-holes) within them. The experimentally observed high quasi-particle excess current through the junctions indicates that there is a significant contribution of the Andreev reflections by the two S/N interfaces into the charge transport through the studied Josephson heterostructures.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Электронные структура и свойства
Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
Надлишковий квазічастинковий струм у джозефсонівських гетероструктурах надпровідник—допований напівпровідник—надпровідник MoRe—Si (W)—MoRe
Excess Quasi-Particle Current in Josephson Superconductor—Doped Semiconductor—Superconductor Heterostructures MoRe—Si (W)—MoRe
Article
published earlier
spellingShingle Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
Электронные структура и свойства
title Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_alt Надлишковий квазічастинковий струм у джозефсонівських гетероструктурах надпровідник—допований напівпровідник—надпровідник MoRe—Si (W)—MoRe
Excess Quasi-Particle Current in Josephson Superconductor—Doped Semiconductor—Superconductor Heterostructures MoRe—Si (W)—MoRe
title_full Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_fullStr Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_full_unstemmed Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_short Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_sort избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник more—si (w)—more
topic Электронные структура и свойства
topic_facet Электронные структура и свойства
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106989
work_keys_str_mv AT šaternikve izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT belogolovskiima izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT šapovalovap izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT suvorovaû izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT šaternikve nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT belogolovskiima nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT šapovalovap nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT suvorovaû nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT šaternikve excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
AT belogolovskiima excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
AT šapovalovap excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
AT suvorovaû excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore