Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe

В работе исследованы вольт-амперные характеристики гетеропереходов вида MoRe—Si (W)—MoRe; при этом толщина и концентрация допанта полупроводникового барьера Si (W) изготовленных гетероструктур изменялись в широком диапазоне значений. Было установлено, что при относительно высоких концентрациях (5—9...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Металлофизика и новейшие технологии
Datum:2014
Hauptverfasser: Шатерник, В.Е., Белоголовский, М.А., Шаповалов, А.П., Суворов, А.Ю.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106989
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe / В.Е. Шатерник, М.А. Белоголовский, А.П. Шаповалов, А.Ю. Суворов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 8. — С. 999-1006. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-106989
record_format dspace
spelling Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
2016-10-10T18:48:13Z
2016-10-10T18:48:13Z
2014
Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe / В.Е. Шатерник, М.А. Белоголовский, А.П. Шаповалов, А.Ю. Суворов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 8. — С. 999-1006. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
1024-1809
PACS: 73.23.-b, 73.40.Gk, 73.40.Ns, 74.50.+r, 74.70.Ad, 85.25.Am, 85.25.Cp
DOI: http://dx.doi.org/10.15407/mfint.36.08.0999
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106989
В работе исследованы вольт-амперные характеристики гетеропереходов вида MoRe—Si (W)—MoRe; при этом толщина и концентрация допанта полупроводникового барьера Si (W) изготовленных гетероструктур изменялись в широком диапазоне значений. Было установлено, что при относительно высоких концентрациях (5—9 ат.%) вольфрама в кремниевом барьере наблюдается резонансный туннельный эффект через локализованные уровни вольфрамовых кластеров. Одновременно при определённых условиях в таких переходах появляется сверхпроводящий ток Джозефсона, обусловленный многократными андреевскими отражениями боголюбовских квазичастиц (квазиэлектронов и квазидырок). Экспериментально наблюдаемый большой избыточный ток квазичастиц через переходы свидетельствует о существенном по величине вкладе в транспорт заряда от андреевских отражений на двух S/N-интерфейсах исследуемых джозефсоновских гетероструктур.
У роботі досліджено вольт-амперні характеристики гетеропереходів MoRe—Si (W)—MoRe; при цьому товщина та концентрація допанту напівпровідникового бар’єру Si (W) виготовлених гетероструктур змінювалися в широкому діяпазоні значень. Було встановлено, що за відносно високих концентрацій (5—9 ат.%) вольфраму в кремнійовому бар’єрі спостерігається резонансний тунельний ефект через локалізовані рівні вольфрамових кластерів. Одночасно за певних умов у таких переходах виникає Джозефсонів надпровідний струм, обумовлений багаторазовими Андрєєвськими відбиваннями Боголюбових квазичастинок (квазиелектронів та квазидірок). Експериментально спостережуваний великий надлишковий струм квазичастинок крізь переходи свідчить про наявність істотного за величиною внеску в транспорт заряду від Андрєєвських відбивань на двох S/N-інтерфейсах досліджуваних Джозефсонових гетероструктур.
Current—voltage characteristics of fabricated MoRe—Si(W)—MoRe heterojunctions are investigated in a wide range of changes in the parameters (such as thickness and dopant concentration) of the semiconductor Si (W) barriers. As found, at relatively high concentrations (5—9 at.%) of tungsten in the silicon barriers, a resonant tunnelling effect occurs through the localized levels of tungsten clusters. Simultaneously, under certain conditions, a superconducting Josephson current appears through such junctions and is conditioned by the multiple Andreev reflections of the Bogolyubov quasi-particles (quasi-electrons and quasi-holes) within them. The experimentally observed high quasi-particle excess current through the junctions indicates that there is a significant contribution of the Andreev reflections by the two S/N interfaces into the charge transport through the studied Josephson heterostructures.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Электронные структура и свойства
Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
Надлишковий квазічастинковий струм у джозефсонівських гетероструктурах надпровідник—допований напівпровідник—надпровідник MoRe—Si (W)—MoRe
Excess Quasi-Particle Current in Josephson Superconductor—Doped Semiconductor—Superconductor Heterostructures MoRe—Si (W)—MoRe
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
spellingShingle Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
Электронные структура и свойства
title_short Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_full Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_fullStr Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_full_unstemmed Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe
title_sort избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник more—si (w)—more
author Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
author_facet Шатерник, В.Е.
Белоголовский, М.А.
Шаповалов, А.П.
Суворов, А.Ю.
topic Электронные структура и свойства
topic_facet Электронные структура и свойства
publishDate 2014
language Russian
container_title Металлофизика и новейшие технологии
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt Надлишковий квазічастинковий струм у джозефсонівських гетероструктурах надпровідник—допований напівпровідник—надпровідник MoRe—Si (W)—MoRe
Excess Quasi-Particle Current in Josephson Superconductor—Doped Semiconductor—Superconductor Heterostructures MoRe—Si (W)—MoRe
description В работе исследованы вольт-амперные характеристики гетеропереходов вида MoRe—Si (W)—MoRe; при этом толщина и концентрация допанта полупроводникового барьера Si (W) изготовленных гетероструктур изменялись в широком диапазоне значений. Было установлено, что при относительно высоких концентрациях (5—9 ат.%) вольфрама в кремниевом барьере наблюдается резонансный туннельный эффект через локализованные уровни вольфрамовых кластеров. Одновременно при определённых условиях в таких переходах появляется сверхпроводящий ток Джозефсона, обусловленный многократными андреевскими отражениями боголюбовских квазичастиц (квазиэлектронов и квазидырок). Экспериментально наблюдаемый большой избыточный ток квазичастиц через переходы свидетельствует о существенном по величине вкладе в транспорт заряда от андреевских отражений на двух S/N-интерфейсах исследуемых джозефсоновских гетероструктур. У роботі досліджено вольт-амперні характеристики гетеропереходів MoRe—Si (W)—MoRe; при цьому товщина та концентрація допанту напівпровідникового бар’єру Si (W) виготовлених гетероструктур змінювалися в широкому діяпазоні значень. Було встановлено, що за відносно високих концентрацій (5—9 ат.%) вольфраму в кремнійовому бар’єрі спостерігається резонансний тунельний ефект через локалізовані рівні вольфрамових кластерів. Одночасно за певних умов у таких переходах виникає Джозефсонів надпровідний струм, обумовлений багаторазовими Андрєєвськими відбиваннями Боголюбових квазичастинок (квазиелектронів та квазидірок). Експериментально спостережуваний великий надлишковий струм квазичастинок крізь переходи свідчить про наявність істотного за величиною внеску в транспорт заряду від Андрєєвських відбивань на двох S/N-інтерфейсах досліджуваних Джозефсонових гетероструктур. Current—voltage characteristics of fabricated MoRe—Si(W)—MoRe heterojunctions are investigated in a wide range of changes in the parameters (such as thickness and dopant concentration) of the semiconductor Si (W) barriers. As found, at relatively high concentrations (5—9 at.%) of tungsten in the silicon barriers, a resonant tunnelling effect occurs through the localized levels of tungsten clusters. Simultaneously, under certain conditions, a superconducting Josephson current appears through such junctions and is conditioned by the multiple Andreev reflections of the Bogolyubov quasi-particles (quasi-electrons and quasi-holes) within them. The experimentally observed high quasi-particle excess current through the junctions indicates that there is a significant contribution of the Andreev reflections by the two S/N interfaces into the charge transport through the studied Josephson heterostructures.
issn 1024-1809
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106989
citation_txt Избыточный квазичастичный ток в джозефсоновских гетероструктурах сверхпроводник—допированный полупроводник—сверхпроводник MoRe—Si (W)—MoRe / В.Е. Шатерник, М.А. Белоголовский, А.П. Шаповалов, А.Ю. Суворов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 8. — С. 999-1006. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šaternikve izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT belogolovskiima izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT šapovalovap izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT suvorovaû izbytočnyikvazičastičnyitokvdžozefsonovskihgeterostrukturahsverhprovodnikdopirovannyipoluprovodniksverhprovodnikmoresiwmore
AT šaternikve nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT belogolovskiima nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT šapovalovap nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT suvorovaû nadliškoviikvazíčastinkoviistrumudžozefsonívsʹkihgeterostrukturahnadprovídnikdopovaniinapívprovídniknadprovídnikmoresiwmore
AT šaternikve excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
AT belogolovskiima excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
AT šapovalovap excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
AT suvorovaû excessquasiparticlecurrentinjosephsonsuperconductordopedsemiconductorsuperconductorheterostructuresmoresiwmore
first_indexed 2025-12-07T20:12:30Z
last_indexed 2025-12-07T20:12:30Z
_version_ 1850881711155445760