Дифузійне фазоутворення в нанорозмірних шаруватих плівкових композиціях Pt(15 нм)/Fe(15 нм) і (Pt(7,5 нм)/Fe(7,5 нм))₂ на підкладках SiO₂(100 нм)/Si(001) - Макогон, Ю.Н.; Павлова, О.П.; Сидоренко, С.І.; Вербицька, Т.І.; Владимирський, І.А.; Фігурна, О.В.; Круглов, І.О. (Металлофизика и новейшие технологии, 2014)
Методами фізичного матеріялознавства (рентґеноструктурною фазовою аналізою, атомно-силовою і магнетно-силовою мікроскопіями, Резерфордовим зворотнім розсіянням, методою міряння магнетних властивостей за допомогою SQUID-магнетометра, резистометрії) досліджено вплив додаткових меж поділу у нанорозмірній шаруватій плівці Pt/Fe на підложжі
SiO₂(100нм)/Si(001), при збереженні початкової товщини плівки (30 нм), на процеси дифузійного фазоутворення – перехід хімічно невпорядкованої магнетом’якої фази А1(FePt) у хімічно впорядковану магнетотверду фазу
L1₀(FePt) при відпалі у вакуумі. Методами физического материаловедения (рентгеноструктурным фазовым анализом, атомно-силовой и магнитно-силовой микроскопиями, резерфордовским обратным рассеянием, методом измерения магнитных свойств с помощью SQUID-магнитометра, резистометрии) исследовано влияние дополнительных границ раздела в слоистой наноразмерной плёнке Pt/Fe на подложке
SiO₂(100 нм)/Si(001), при сохранении первоначальной толщины плёнки (30 нм), на процессы диффузионного фазообразования – переход химически неупорядоченной магнитомягкой фазы А1(FePt) в химически упорядоченную магнитотвёрдую фазу L1₀ (FePt) при отжигах в вакууме. Influence of the additional interfaces in nanoscale layered Pt/Fe film on the
SiO₂(100 nm)/Si substrate, with the retention of initial film thickness (of 30 nm), on the diffusive phase-formation processes–transformation of soft-magnetic chemically disordered A1(FePt) phase into hard-magnetic chemically ordered
L1₀(FePt) phase at annealing in vacuum is investigated by methods of physical materials science: X-ray diffraction, atomic force microscopy and magnetic force microscopy, Rutherford backscattering, SQUID magnetometry, and electrical resistance measurements.