Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснова...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
|---|---|
| Datum: | 2014 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2014
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107163 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике / Я.А. Косенок, В.Е. Гайшун, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, Д.П. Савицкий // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 2. — С. 269–277. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-107163 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П. 2016-10-14T13:25:22Z 2016-10-14T13:25:22Z 2014 Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике / Я.А. Косенок, В.Е. Гайшун, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, Д.П. Савицкий // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 2. — С. 269–277. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1816-5230 PACS numbers: 66.20.Ej, 81.16.Dn, 81.65.Ps, 82.70.Kj, 83.50.Uv, 83.60.Pq, 83.80.Hj https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107163 В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснованные формулы для описания эффективной вязкости в зависимости от степени равновесного разрушения и тиксотропного восстановления связей структуры в процессе течения композиционной суспензии. Формулы сравниваются с результатами, полученными экспериментальным путём. Приводятся данные о режимах полировки и качестве поверхности пластин монокристаллического кремния после полировки с использованием композиционной суспензии. У роботі досліджено поведінку реології композиційних суспензій на основі силікатного золю і нанорозмірних частинок діоксиду кремнію, які можуть бути використані на II-й стадії полірування пластин монокристалічного кремнію та інших напівпровідникових матеріялів. Наведено фізично обґрунтовані формули для опису ефективної в’язкости залежно від ступеня рівноважного руйнування і тиксотропного відновлення зв’язків структури в процесі плину композиційної суспензії. Формули порівнюються з результатами , одержаними експериментальним шляхом. Наведено дані про режими полірування та якість поверхні пластин монокристалічного кремнію після полірування з використанням композиційної суспензії. The rheological behaviour of the composite suspensions based on silica sol and silica nanoparticles, which can be used at the II-nd stage of polishing of mono-crystalline silicon wafers or other semiconductor materials, is investigated. Physically based formulas are presented to describe the effective viscosity depending on degree of balanced destruction and thixotropic reduction of bonds of structure in the process of flow of composite suspension. The resulting formulas are compared with the experimental data. The data on both the regimes of polishing and surface quality of monocrystalline silicon wafers after polishing using the composite suspension are presented. ru Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике |
| spellingShingle |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П. |
| title_short |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике |
| title_full |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике |
| title_fullStr |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике |
| title_full_unstemmed |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике |
| title_sort |
реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике |
| author |
Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П. |
| author_facet |
Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П. |
| publishDate |
2014 |
| language |
Russian |
| container_title |
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
| publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
| format |
Article |
| description |
В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснованные формулы для описания эффективной вязкости в зависимости от степени равновесного разрушения и тиксотропного восстановления связей структуры в процессе течения композиционной суспензии. Формулы сравниваются с результатами, полученными экспериментальным путём. Приводятся данные о режимах полировки и качестве поверхности пластин монокристаллического кремния после полировки с использованием композиционной суспензии.
У роботі досліджено поведінку реології композиційних суспензій на основі силікатного золю і нанорозмірних частинок діоксиду кремнію, які можуть бути використані на II-й стадії полірування пластин монокристалічного кремнію та інших напівпровідникових матеріялів. Наведено фізично обґрунтовані формули для опису ефективної в’язкости залежно від ступеня рівноважного руйнування і тиксотропного відновлення зв’язків структури в процесі плину композиційної суспензії. Формули порівнюються з результатами , одержаними експериментальним шляхом. Наведено дані про режими полірування та якість поверхні пластин монокристалічного кремнію після полірування з використанням композиційної суспензії.
The rheological behaviour of the composite suspensions based on silica sol and silica nanoparticles, which can be used at the II-nd stage of polishing of mono-crystalline silicon wafers or other semiconductor materials, is investigated. Physically based formulas are presented to describe the effective viscosity depending on degree of balanced destruction and thixotropic reduction of bonds of structure in the process of flow of composite suspension. The resulting formulas are compared with the experimental data. The data on both the regimes of polishing and surface quality of monocrystalline silicon wafers after polishing using the composite suspension are presented.
|
| issn |
1816-5230 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107163 |
| citation_txt |
Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике / Я.А. Косенок, В.Е. Гайшун, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, Д.П. Савицкий // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 2. — С. 269–277. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT kosenokâa reologičeskiesvoistvakompozicionnyhsuspenziinaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT gaišunve reologičeskiesvoistvakompozicionnyhsuspenziinaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT tûlenkovaoi reologičeskiesvoistvakompozicionnyhsuspenziinaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT turovvv reologičeskiesvoistvakompozicionnyhsuspenziinaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT savickiidp reologičeskiesvoistvakompozicionnyhsuspenziinaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike |
| first_indexed |
2025-12-07T16:40:36Z |
| last_indexed |
2025-12-07T16:40:36Z |
| _version_ |
1850868379411283968 |