Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

• Опубліковано в: : Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
• Дата: 2014
• Автор: Mulenko, S.A.
• Формат: Стаття
• Мова: Англійська
• Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107205
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser. Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпровідникові властивості, з вузькою енергетичною забороненою зоною було осаджено методом імпульсного лазерного осадження (PLD) з мішеней CrSi₂ і β-FeSi₂ із застосуванням ексимерного KrF-лазера. Наноструктуры в форме тонких плёнок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещённой зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi₂ и β-FeSi₂ с применением эксимерного KrF-лазера.