Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser. Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпров...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Date:2014
Main Author: Mulenko, S.A.
Format: Article
Language:English
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107205
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862619612962619392
author Mulenko, S.A.
author_facet Mulenko, S.A.
citation_txt Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
description Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser. Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпровідникові властивості, з вузькою енергетичною забороненою зоною було осаджено методом імпульсного лазерного осадження (PLD) з мішеней CrSi₂ і β-FeSi₂ із застосуванням ексимерного KrF-лазера. Наноструктуры в форме тонких плёнок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещённой зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi₂ и β-FeSi₂ с применением эксимерного KrF-лазера.
first_indexed 2025-12-07T13:19:23Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-107205
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1816-5230
language English
last_indexed 2025-12-07T13:19:23Z
publishDate 2014
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
record_format dspace
spelling Mulenko, S.A.
2016-10-14T16:59:36Z
2016-10-14T16:59:36Z
2014
Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.
1816-5230
PACS numbers: 72.20.Pa, 73.22.-f, 73.50.Lw, 73.61.-r, 81.15.Fg, 81.16.Mk, 85.80.Fi
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107205
Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser.
Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпровідникові властивості, з вузькою енергетичною забороненою зоною було осаджено методом імпульсного лазерного осадження (PLD) з мішеней CrSi₂ і β-FeSi₂ із застосуванням ексимерного KrF-лазера.
Наноструктуры в форме тонких плёнок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещённой зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi₂ и β-FeSi₂ с применением эксимерного KrF-лазера.
Author thanks to Prof. A. Luches and Dr. A. P. Caricato from the Department of Physics at Salento University, Italy for the help of sample preparation by PLD.
en
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
Article
published earlier
spellingShingle Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
Mulenko, S.A.
title Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
title_full Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
title_fullStr Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
title_full_unstemmed Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
title_short Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient
title_sort pulsed laser deposition of thin iron and chromium silicide films with large thermoelectromotive force coefficient
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107205
work_keys_str_mv AT mulenkosa pulsedlaserdepositionofthinironandchromiumsilicidefilmswithlargethermoelectromotiveforcecoefficient