Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

• Veröffentlicht in: Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
• Datum: 2014
• 1. Verfasser: Mulenko, S.A.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107205
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser. Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпров...