Исследование пространственной однородности, элементного и изотопного состава алмазных пленок, полученных методом CVD, комплексом ядерно-физических методов анализа

Разработана методика неразрушающего анализа поверхностных слоев в бинарных образцах в виде пленок из искусственных алмазов, осажденных на подложку из кремния методом CVD, на основе регистрации рентгеновского и γ-излучения возбуждаемого ускоренными протонами. Определены толщины и профили концентрации...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2014
Main Authors: Левенец, В.В., Щур, А.А., Стрельницкий, В.Е., Дудник, С.Ф.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2014
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108480
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Исследование пространственной однородности, элементного и изотопного состава алмазных пленок, полученных методом CVD, комплексом ядерно-физических методов анализа / В.В. Левенец , А.А. Щур, В.Е. Стрельницкий, С.Ф. Дудник // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 392-398. — Бібліогр.: 2 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Разработана методика неразрушающего анализа поверхностных слоев в бинарных образцах в виде пленок из искусственных алмазов, осажденных на подложку из кремния методом CVD, на основе регистрации рентгеновского и γ-излучения возбуждаемого ускоренными протонами. Определены толщины и профили концентрации углерода в пленках из искусственных алмазов. Исследованы элементный состав алмазных пленок, распределение фтора по глубине в приповерхностных слоях. Изучены и выявлены различия в изотопном составе базового компонента покрытия — углерода в исследованных образцах. Сделаны выводы о возможности применения подобных аналитических методов для изучения физических процессов, связанных с изготовлением искусственных алмазов методом CVD и определение факторов, влияющих на характеристики подобных изделий. Розроблено методику неруйнівного аналізу поверхневих шарів у бінарних зразках у вигляді плівок зі штучних діамантів осаджених на підложку з кремнію методом CVD, на основі реєстрації рентгенівського та γ-випромінювання збуджуваного прискореними протонами. Визначено товщин и та профілі концентрації вуглецю у плівках зі штучних діамантів. Досліджено елементний склад діамантових плівок, розподіл фтору по глибині у приповерхневих шарах. Вивчено і виявлено відмінності в ізотопному складі базового компоненту покриття — вуглецю у дослідженних зразках. Зроблено висновки щодо можливості застосування подібних аналітичних методів для вивчення фізичних процесів, пов’язаних із виготовленням штучних діамантів методом CVD та визначення чинників, які впливають на характеристики подібних виробів. The methods was developed of non-destructive analysis of near surface layers of binary samples of diamonds films obtained by CVD deposition on Si-backing, using PIXE and PIGE. The thicknesses and depth profiles of carbon were determined in synthetic diamonds films. The elemental content of films was studied and depth profiles of fluorine near surface were obtained. The differences were founded for isotopic contents of carbon in studying samples. The conclusions were made about possibilities of application of the such analytical methods to study physical processes, which take a place at the manufacturing of synthetic diamonds by CVD and determination of parameters, which influence on features of such production
ISSN:1999-8074