Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду;...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Дата: | 2014 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2014
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108484 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862714957077938176 |
|---|---|
| author | Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. |
| author_facet | Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. |
| citation_txt | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями.
В работе представлены результаты разработки и исследования многофункциональной ионно-плазменной технологической системы, в состав которой входят следующие комплементарные плазменные модули: два несбалансированных магнетрона низкого давления; источник плазмы и активированных частиц на базе ВЧ индукционного разряда; источник ионов средних энергий на базе разряда в скрещенных ЕН полях; система импульсной поляризации образцов. Были исследованы характеристики отдельных плазменных модулей и показана возможность их совместного действия в процессах реактивного ионно-плазменного синтеза покрытий. Рабочий диапазон параметров многофункциональной ионно-плазменной технологической системы позволяет в едином цикле проводить очистку и активацию обрабатываемой поверхности, наносить металлические, диэлектрические, сложнокомпозиционные и многослойные покрытия с уникальными свойствами.
The paper presents the results of research and development of multi-functional ion-plasma processing system, which includes the following complementary plasma modules: two low-pressure unbalanced magnetrons; source of plasma and activated particles on the basis of RF inductive discharge; medium energy ion source based on discharge in crossed EH fields; system of pulsed polarization of samples. We investigated the characteristics of the individual plasma modules and the possibility of their joint operation during reactive ion-plasma coating synthesis. The multipurpose ion-plasma processing system allows in a single cycle to clean and activate the processed surface, deposit metal, dielectric, complex-composite and multilayer coatings with unique properties.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:54:38Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-108484 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T17:54:38Z |
| publishDate | 2014 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. 2016-11-05T18:16:59Z 2016-11-05T18:16:59Z 2014 Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108484 533.924 В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями. В работе представлены результаты разработки и исследования многофункциональной ионно-плазменной технологической системы, в состав которой входят следующие комплементарные плазменные модули: два несбалансированных магнетрона низкого давления; источник плазмы и активированных частиц на базе ВЧ индукционного разряда; источник ионов средних энергий на базе разряда в скрещенных ЕН полях; система импульсной поляризации образцов. Были исследованы характеристики отдельных плазменных модулей и показана возможность их совместного действия в процессах реактивного ионно-плазменного синтеза покрытий. Рабочий диапазон параметров многофункциональной ионно-плазменной технологической системы позволяет в едином цикле проводить очистку и активацию обрабатываемой поверхности, наносить металлические, диэлектрические, сложнокомпозиционные и многослойные покрытия с уникальными свойствами. The paper presents the results of research and development of multi-functional ion-plasma processing system, which includes the following complementary plasma modules: two low-pressure unbalanced magnetrons; source of plasma and activated particles on the basis of RF inductive discharge; medium energy ion source based on discharge in crossed EH fields; system of pulsed polarization of samples. We investigated the characteristics of the individual plasma modules and the possibility of their joint operation during reactive ion-plasma coating synthesis. The multipurpose ion-plasma processing system allows in a single cycle to clean and activate the processed surface, deposit metal, dielectric, complex-composite and multilayer coatings with unique properties. Роботу виконано в Харківському національному університеті імені В. Н. Каразіна та Науковому фізико-технологічному центрі МОН та НАН України в результаті виконання проектів Міністерства освіти і науки України (Номери держреєстрації: uk Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів Ионно-плазменная система для реактивного магнетронного нанесения покрытий Ion-plasma system for reactive magnetron deposition Article published earlier |
| spellingShingle | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів Яковін, С.Д. Зиков, О.В. Дудін, С.В. Фаренік, В.І. Юнаков, М.М. |
| title | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_alt | Ионно-плазменная система для реактивного магнетронного нанесения покрытий Ion-plasma system for reactive magnetron deposition |
| title_full | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_fullStr | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_full_unstemmed | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_short | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| title_sort | іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108484 |
| work_keys_str_mv | AT âkovínsd íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT zikovov íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT dudínsv íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT fareníkví íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT ûnakovmm íonnoplazmovasistemadlâreaktivnogomagnetronnogonanesennâpokrittív AT âkovínsd ionnoplazmennaâsistemadlâreaktivnogomagnetronnogonaneseniâpokrytii AT zikovov ionnoplazmennaâsistemadlâreaktivnogomagnetronnogonaneseniâpokrytii AT dudínsv ionnoplazmennaâsistemadlâreaktivnogomagnetronnogonaneseniâpokrytii AT fareníkví ionnoplazmennaâsistemadlâreaktivnogomagnetronnogonaneseniâpokrytii AT ûnakovmm ionnoplazmennaâsistemadlâreaktivnogomagnetronnogonaneseniâpokrytii AT âkovínsd ionplasmasystemforreactivemagnetrondeposition AT zikovov ionplasmasystemforreactivemagnetrondeposition AT dudínsv ionplasmasystemforreactivemagnetrondeposition AT fareníkví ionplasmasystemforreactivemagnetrondeposition AT ûnakovmm ionplasmasystemforreactivemagnetrondeposition |