Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів - Яковін, С.Д.; Зиков, О.В.; Дудін, С.В.; Фаренік, В.І.; Юнаков, М.М. (Физическая инженерия поверхности, 2014)
В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями. В работе представлены результаты разработки и исследования многофункциональной ионно-плазменной технологической системы, в состав которой входят следующие комплементарные плазменные модули: два несбалансированных магнетрона низкого давления; источник плазмы и активированных частиц на базе ВЧ индукционного разряда; источник ионов средних энергий на базе разряда в скрещенных ЕН полях; система импульсной поляризации образцов. Были исследованы характеристики отдельных плазменных модулей и показана возможность их совместного действия в процессах реактивного ионно-плазменного синтеза покрытий. Рабочий диапазон параметров многофункциональной ионно-плазменной технологической системы позволяет в едином цикле проводить очистку и активацию обрабатываемой поверхности, наносить металлические, диэлектрические, сложнокомпозиционные и многослойные покрытия с уникальными свойствами. The paper presents the results of research and development of multi-functional ion-plasma processing system, which includes the following complementary plasma modules: two low-pressure unbalanced magnetrons; source of plasma and activated particles on the basis of RF inductive discharge; medium energy ion source based on discharge in crossed EH fields; system of pulsed polarization of samples. We investigated the characteristics of the individual plasma modules and the possibility of their joint operation during reactive ion-plasma coating synthesis. The multipurpose ion-plasma processing system allows in a single cycle to clean and activate the processed surface, deposit metal, dielectric, complex-composite and multilayer coatings with unique properties.