Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду;...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2014 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Ukrainian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2014
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108484 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. |