Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом

В данной работе приводятся результаты экспериментальных исследований изучения физических процессов в чрезмерно тонкой (3–20 мкм) газоразрядной ячейке с полупроводниковым электродом. Экспериментально подтверждается, что основной механизм формирования изображения в полупроводниковой ионизационной каме...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2015
Main Authors: Хайдаров, З., Юлдашев, Х.Т., Хайдаров, Б.З., Урмонов, С.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2015
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108710
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом / З. Хайдаров, Х.Т. Юлдашев, Б.З. Хайдаров, С. Урмонов // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 136-140. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862548524655181824
author Хайдаров, З.
Юлдашев, Х.Т.
Хайдаров, Б.З.
Урмонов, С.
author_facet Хайдаров, З.
Юлдашев, Х.Т.
Хайдаров, Б.З.
Урмонов, С.
citation_txt Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом / З. Хайдаров, Х.Т. Юлдашев, Б.З. Хайдаров, С. Урмонов // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 136-140. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
description В данной работе приводятся результаты экспериментальных исследований изучения физических процессов в чрезмерно тонкой (3–20 мкм) газоразрядной ячейке с полупроводниковым электродом. Экспериментально подтверждается, что основной механизм формирования изображения в полупроводниковой ионизационной камере является автоэлектронная эмиссия. У даній роботі наводяться результати експериментальних досліджень фізичних процесів у надмірно тонкою (3–20 мкм) газорозрядної осередку з напівпровідниковим електродом. Експериментально підтверджується, що основним механізмом формування зображення в напівпровідниковій іонізаційній камері є автоелектронна емісія. The results of experimental researches of the physical processes in excessively thin gas-discharged cell with semiconductor electrode are given in this work. It is confirmed that the main mechanism of the formation of the image in semiconductor ionization camera is auto electron emission.
first_indexed 2025-11-25T18:15:37Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-108710
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Russian
last_indexed 2025-11-25T18:15:37Z
publishDate 2015
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Хайдаров, З.
Юлдашев, Х.Т.
Хайдаров, Б.З.
Урмонов, С.
2016-11-14T17:35:33Z
2016-11-14T17:35:33Z
2015
Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом / З. Хайдаров, Х.Т. Юлдашев, Б.З. Хайдаров, С. Урмонов // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 136-140. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108710
621.393.3:621.382:621.385
В данной работе приводятся результаты экспериментальных исследований изучения физических процессов в чрезмерно тонкой (3–20 мкм) газоразрядной ячейке с полупроводниковым электродом. Экспериментально подтверждается, что основной механизм формирования изображения в полупроводниковой ионизационной камере является автоэлектронная эмиссия.
У даній роботі наводяться результати експериментальних досліджень фізичних процесів у надмірно тонкою (3–20 мкм) газорозрядної осередку з напівпровідниковим електродом. Експериментально підтверджується, що основним механізмом формування зображення в напівпровідниковій іонізаційній камері є автоелектронна емісія.
The results of experimental researches of the physical processes in excessively thin gas-discharged cell with semiconductor electrode are given in this work. It is confirmed that the main mechanism of the formation of the image in semiconductor ionization camera is auto electron emission.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
Фотоелектричні явища в надтонкому (3–20 мкм) зазорі газового розряду з напівпровідниковим електродом
Photoelectric phenomena in ultrathin (3–20 μm) of the gap gas discharge with a semiconductor electrode
Article
published earlier
spellingShingle Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
Хайдаров, З.
Юлдашев, Х.Т.
Хайдаров, Б.З.
Урмонов, С.
title Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
title_alt Фотоелектричні явища в надтонкому (3–20 мкм) зазорі газового розряду з напівпровідниковим електродом
Photoelectric phenomena in ultrathin (3–20 μm) of the gap gas discharge with a semiconductor electrode
title_full Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
title_fullStr Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
title_full_unstemmed Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
title_short Фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
title_sort фотоэлектрические явления в сверхтонком (3-20 мкм) зазоре газового разряда с полупроводниковым электродом
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108710
work_keys_str_mv AT haidarovz fotoélektričeskieâvleniâvsverhtonkom320mkmzazoregazovogorazrâdaspoluprovodnikovymélektrodom
AT ûldaševht fotoélektričeskieâvleniâvsverhtonkom320mkmzazoregazovogorazrâdaspoluprovodnikovymélektrodom
AT haidarovbz fotoélektričeskieâvleniâvsverhtonkom320mkmzazoregazovogorazrâdaspoluprovodnikovymélektrodom
AT urmonovs fotoélektričeskieâvleniâvsverhtonkom320mkmzazoregazovogorazrâdaspoluprovodnikovymélektrodom
AT haidarovz fotoelektričníâviŝavnadtonkomu320mkmzazorígazovogorozrâduznapívprovídnikovimelektrodom
AT ûldaševht fotoelektričníâviŝavnadtonkomu320mkmzazorígazovogorozrâduznapívprovídnikovimelektrodom
AT haidarovbz fotoelektričníâviŝavnadtonkomu320mkmzazorígazovogorozrâduznapívprovídnikovimelektrodom
AT urmonovs fotoelektričníâviŝavnadtonkomu320mkmzazorígazovogorozrâduznapívprovídnikovimelektrodom
AT haidarovz photoelectricphenomenainultrathin320μmofthegapgasdischargewithasemiconductorelectrode
AT ûldaševht photoelectricphenomenainultrathin320μmofthegapgasdischargewithasemiconductorelectrode
AT haidarovbz photoelectricphenomenainultrathin320μmofthegapgasdischargewithasemiconductorelectrode
AT urmonovs photoelectricphenomenainultrathin320μmofthegapgasdischargewithasemiconductorelectrode