Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5

В работе рассмотрены особенности образования кластеров на поверхности полупроводников группы А3В5 при электрохимической обработке. Механизм данного явления описан с точки зрения когерентных явлений в стохастических системах. В роботі розглянуті особливості утворення кластерів на поверхні напівпровід...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2015
Автор: Сычикова, Я.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2015
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108713
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5 / Я.А. Сычикова // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 164-168. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-108713
record_format dspace
spelling Сычикова, Я.А.
2016-11-14T17:43:45Z
2016-11-14T17:43:45Z
2015
Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5 / Я.А. Сычикова // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 164-168. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108713
539.217; 544.723
В работе рассмотрены особенности образования кластеров на поверхности полупроводников группы А3В5 при электрохимической обработке. Механизм данного явления описан с точки зрения когерентных явлений в стохастических системах.
В роботі розглянуті особливості утворення кластерів на поверхні напівпровідників групи А3В5 при електрохімічній обробці. Механізм цього явища описаний з погляду когерентних явищ в стохастичних системах.
The paper discusses the characteristics of cluster formation on the surface of semiconductors A3B5 in electrochemical processing. The mechanism of this phenomenon is described in terms of coherent phenomena in stochastic systems.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
Модель формування кластерів на поверхні напівпровідникових кристалів групи А3В5
Model cluster formation on the surface of semiconductor crystals of the group A3B5
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
spellingShingle Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
Сычикова, Я.А.
title_short Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
title_full Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
title_fullStr Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
title_full_unstemmed Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5
title_sort модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы а3в5
author Сычикова, Я.А.
author_facet Сычикова, Я.А.
publishDate 2015
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Модель формування кластерів на поверхні напівпровідникових кристалів групи А3В5
Model cluster formation on the surface of semiconductor crystals of the group A3B5
description В работе рассмотрены особенности образования кластеров на поверхности полупроводников группы А3В5 при электрохимической обработке. Механизм данного явления описан с точки зрения когерентных явлений в стохастических системах. В роботі розглянуті особливості утворення кластерів на поверхні напівпровідників групи А3В5 при електрохімічній обробці. Механізм цього явища описаний з погляду когерентних явищ в стохастичних системах. The paper discusses the characteristics of cluster formation on the surface of semiconductors A3B5 in electrochemical processing. The mechanism of this phenomenon is described in terms of coherent phenomena in stochastic systems.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108713
citation_txt Модель формирования кластеров на поверхности полупроводниковых кристаллов группы А3В5 / Я.А. Сычикова // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 164-168. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT syčikovaâa modelʹformirovaniâklasterovnapoverhnostipoluprovodnikovyhkristallovgruppya3v5
AT syčikovaâa modelʹformuvannâklasterívnapoverhnínapívprovídnikovihkristalívgrupia3v5
AT syčikovaâa modelclusterformationonthesurfaceofsemiconductorcrystalsofthegroupa3b5
first_indexed 2025-11-27T14:00:49Z
last_indexed 2025-11-27T14:00:49Z
_version_ 1850852371073073152