Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков

В работе развиты предшествующие теоретические и экспериментальные исследования локального СВЧ нагрева полупроводников, диэлектриков и биообъектов. В результате сформулированы положения, оценивающие зависимость кинетики и локальности нагрева от длительности воздействующего СВЧ импульса, термодинамиче...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физическая инженерия поверхности
Datum:2015
Hauptverfasser: Гордиенко, Ю.Е., Щербак, Е.Л., Левченко, А.В.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2015
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108764
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков м/ Ю.Е. Гордиенко, Е.Л. Щербак, А.В. Левченко // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 3. — С. 348-355. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine