Оптимизация эксплуатационных характеристик преобразователей на основе поверхностного плазмонного резонанса

• Datum: 2014
• Hauptverfasser: Костюкевич, Е.В., Костюкевич, С.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2014
• Schriftenreihe: Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108926
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Оптимизация эксплуатационных характеристик преобразователей на основе поверхностного плазмонного резонанса / Е.В. Костюкевич, С.А. Костюкевич // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2014. — Вип. 49. — С. 60-68. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Проведен анализ технологических условий изготовления преобразователей на основе ППР: тип подложки для пленки золота (кварц/стекло), наличие подслоя (Cr), улучшающего адгезию пленки золота к подложке, а также низкотемпературный отжиг пленки золота. С учетом результатов структурных исследований сделан вывод о влиянии технологических условий на такие эксплуатационные характеристики сенсорных приборов ППР, как чувствительность и стабильность. Исследованы форма резонансной кривой ППР, долговременная стабильность значения резонансного угла и индикатриса рассеянного света. Показано, что применение температурного отжига золотых пленок при 120 С обеспечивает оптимальные рабочие характеристики и высокую чувствительность преобразователя ППР, а также бездефектное формирование защитных наноразмерных слоев благодаря отсутствию мелкомасштабной шероховатости поверхности.