Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis
In the present paper the results of technological approbation of the integral cluster set-up for synthesis of various types of high-quality coatings such as Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN, and others with coating thickness up to 10 mkm are presented. Сurrent-voltage characteristics of magnetron dischar...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2012 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2012
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109200 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis / S. Yakovin, S. Dudin, A. Zykov, A. Shyshkov, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 220-222. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862702971739963392 |
|---|---|
| author | Yakovin, S. Dudin, S. Zykov, A. Shyshkov, A. Farenik, V. |
| author_facet | Yakovin, S. Dudin, S. Zykov, A. Shyshkov, A. Farenik, V. |
| citation_txt | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis / S. Yakovin, S. Dudin, A. Zykov, A. Shyshkov, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 220-222. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | In the present paper the results of technological approbation of the integral cluster set-up for synthesis of various types of high-quality coatings such as Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN, and others with coating thickness up to 10 mkm are presented. Сurrent-voltage characteristics of magnetron discharge in argon mixtures with oxygen and nitrogen for various gas pressures and for various target materials have been measured.
Представлены результаты технологической апробации интегральной кластерной установки для синтеза высококачественных покрытий типа Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN и других, толщиной до 10 мкм. Были измерены вольт-амперные характеристики магнетронного разряда в смесях аргона с кислородом и азотом, при различных давлениях рабочего газа и разных материалах мишени.
Представлено результати технологічної апробації інтегральної кластерноїї установки для синтезу високоякісних покриттів типу Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN та інших, товщиною до 10 мкм. Було виміряно вольт-амперні характеристики магнетронного розряду в сумішах аргону з киснем та азотом, при різних тисках робочого газу та різних матеріалах мішені.
|
| first_indexed | 2025-12-07T16:46:53Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-109200 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T16:46:53Z |
| publishDate | 2012 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Yakovin, S. Dudin, S. Zykov, A. Shyshkov, A. Farenik, V. 2016-11-21T19:35:59Z 2016-11-21T19:35:59Z 2012 Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis / S. Yakovin, S. Dudin, A. Zykov, A. Shyshkov, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 220-222. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109200 In the present paper the results of technological approbation of the integral cluster set-up for synthesis of various types of high-quality coatings such as Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN, and others with coating thickness up to 10 mkm are presented. Сurrent-voltage characteristics of magnetron discharge in argon mixtures with oxygen and nitrogen for various gas pressures and for various target materials have been measured. Представлены результаты технологической апробации интегральной кластерной установки для синтеза высококачественных покрытий типа Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN и других, толщиной до 10 мкм. Были измерены вольт-амперные характеристики магнетронного разряда в смесях аргона с кислородом и азотом, при различных давлениях рабочего газа и разных материалах мишени. Представлено результати технологічної апробації інтегральної кластерноїї установки для синтезу високоякісних покриттів типу Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN та інших, товщиною до 10 мкм. Було виміряно вольт-амперні характеристики магнетронного розряду в сумішах аргону з киснем та азотом, при різних тисках робочого газу та різних матеріалах мішені. The present work was supported by Ministry of Education
 and Science of Ukraine, Project 0111U001463. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis Технологическая апробация интегральной кластерной установки для синтеза сложнокомпозиционных структур Технологічна апробація інтегральної кластерної установки для синтезу складнокомпозиційних структур Article published earlier |
| spellingShingle | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis Yakovin, S. Dudin, S. Zykov, A. Shyshkov, A. Farenik, V. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| title | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis |
| title_alt | Технологическая апробация интегральной кластерной установки для синтеза сложнокомпозиционных структур Технологічна апробація інтегральної кластерної установки для синтезу складнокомпозиційних структур |
| title_full | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis |
| title_fullStr | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis |
| title_full_unstemmed | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis |
| title_short | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis |
| title_sort | technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis |
| topic | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| topic_facet | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109200 |
| work_keys_str_mv | AT yakovins technologicalaprobationofintegralclustersetupforcomplexcompoundcompositessyntesis AT dudins technologicalaprobationofintegralclustersetupforcomplexcompoundcompositessyntesis AT zykova technologicalaprobationofintegralclustersetupforcomplexcompoundcompositessyntesis AT shyshkova technologicalaprobationofintegralclustersetupforcomplexcompoundcompositessyntesis AT farenikv technologicalaprobationofintegralclustersetupforcomplexcompoundcompositessyntesis AT yakovins tehnologičeskaâaprobaciâintegralʹnoiklasternoiustanovkidlâsintezasložnokompozicionnyhstruktur AT dudins tehnologičeskaâaprobaciâintegralʹnoiklasternoiustanovkidlâsintezasložnokompozicionnyhstruktur AT zykova tehnologičeskaâaprobaciâintegralʹnoiklasternoiustanovkidlâsintezasložnokompozicionnyhstruktur AT shyshkova tehnologičeskaâaprobaciâintegralʹnoiklasternoiustanovkidlâsintezasložnokompozicionnyhstruktur AT farenikv tehnologičeskaâaprobaciâintegralʹnoiklasternoiustanovkidlâsintezasložnokompozicionnyhstruktur AT yakovins tehnologíčnaaprobacíâíntegralʹnoíklasternoíustanovkidlâsintezuskladnokompozicíinihstruktur AT dudins tehnologíčnaaprobacíâíntegralʹnoíklasternoíustanovkidlâsintezuskladnokompozicíinihstruktur AT zykova tehnologíčnaaprobacíâíntegralʹnoíklasternoíustanovkidlâsintezuskladnokompozicíinihstruktur AT shyshkova tehnologíčnaaprobacíâíntegralʹnoíklasternoíustanovkidlâsintezuskladnokompozicíinihstruktur AT farenikv tehnologíčnaaprobacíâíntegralʹnoíklasternoíustanovkidlâsintezuskladnokompozicíinihstruktur |