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Dependence of RF breakdown curve on electrode geometry in CCP reactor

The results of experimental and theoretical study of RF capacitively coupled discharge breakdown in reactor for reactive ion etching of semiconductors are presented. Taking into account complex geometry of the reactor with asymmetric electrodes the main attention has been paid to influence of geomet...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2012
Hauptverfasser:	Dudin, S.V., Dakhov, A.N., Lisovskiy, V.A., Pletniov, V.M.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2012
Schlagworte:	Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109209
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Dependence of RF breakdown curve on electrode geometry in CCP reactor / S.V. Dudin, A.N. Dakhov, V.A. Lisovskiy, V.M. Pletniov // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 193-195. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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