Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2012
• Main Authors: Tanygina, D.M., Anisimov, I.O., Levitsky, S.M.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2012
• Subjects: Плазменная электроника
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109223
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability / D.M. Tanygina, I.O. Anisimov, S.M. Levitsky // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 149-151. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Formation of the flow of the background plasma electrons moving to the electron beam injector at the initial stage of the beam-plasma instability development in the region of maximum HF electric field intensity is demonstrated via 1D computer simulation. Effect is caused by the plasma density profile deformation due to the pressure of the inhomogeneous HF electric field. С помощью компьютерного моделирования показано, что на начальной стадии развития плазменно- пучковой неустойчивости в области, где достигается максимум интенсивности высокочастотного электрического поля, формируется поток электронов фоновой плазмы, направленный навстречу электронному пучку. Возникновение этого потока связано с начальным этапом деформации профиля концентрации плазмы под воздействием давления неоднородного ВЧ-электрического поля. Шляхом комп'ютерного моделювання показано, що на початковій стадії розвитку плазмово-пучкової нестійкості в області, де досягається максимум інтенсивності високочастотного електричного поля, формується потік електронів фонової плазми, спрямований назустріч електронному пучку. Виникнення цього потоку пов’язане із початковим етапом деформації профілю концентрації плазми під дією тиску неоднорідного ВЧ-електричного поля.